製品説明
パルプ遠心電動ポンプ 化学ポンプ
HUATAO OEM パルプ遠心電動ポンプ、化学ポンプの種類は、パルプと水を搬送します。
そして、パルプポンプはパルプ原料調製における主要機器である。
製品説明
SGZ SK遠心ポンプ
SGZ SK遠心ポンプ 高効率・目詰まり・漏れのないパルプポンプは、新世代のパルプポンプ製品です。
高効率、優れた目詰まり防止性能、運転中の漏れなし、設置・メンテナンスの容易さなど、明らかな利点があります。製紙・パルプ企業におけるパルプ媒体の搬送に広く使用されています。
遠心ポンプ 構造上の特徴：
1. ポンプは背面扉構造になっているため、メンテナンス時に配管を分解する必要はありません。
2. ポンプの入口フランジと出口フランジの設計圧力は1.6MPaです。
3. インペラは3枚羽根（または6枚羽根）のオープンインペラを採用しており、高効率で軸方向推力補正が不要、メンテナンスが容易で詰まりの可能性が低い。インペラはロストワックス精密鋳造で製造され、動的バランスが検査されている。
4. ポンプシャフトは、油潤滑式の高耐久性耐摩耗性輸入円筒ころ軸受とラジアルスラスト玉軸受（アンギュラ玉軸受）の組み合わせによって支持されています。円筒ころ軸受はポンプ側に取り付けられ、ラジアルスラスト玉軸受は回転側に面と面を合わせて取り付けられています。
5. シャフトシールは主に、ポンピングリング＋シングルエンドメカニカルシール、パッキンシール、シングルエンドメカニカルシール、タンデムメカニカルシール、ダブルエンドメカニカルシール、ポンピングリングとシングルエンドメカニカルシールの組み合わせシール、およびダイナミックシールが含まれます。ユーザーは、要件と実際の作業条件に応じて選択できます。
6. 材質には、鋳鉄、鋳鋼、普通ステンレス鋼、二相ステンレス鋼の4種類があります。
低パルスパルプポンプ
SJ型サイズポンプ（低脈動ポンプとも呼ばれる）は、一般的な製紙会社で広く使用されている大流量・低揚程混合流ポンプの、パルプの不安定性や分解・組み立ての不便さといった欠点を解消するために設計されています。高効率、安定したパルプ、長寿命、容易なメンテナンス（ポンプ本体両端のベアリングがバランス調整されている）といった特長を備えた、理想的な代替製品です。（ポンプケーシングは中央で開閉し、カバーを開けた後でメンテナンスが可能です。）中速・高速抄紙機のパルプ供給システムとの組み合わせに適しています。動作温度は80℃以下、濃度は1%以下です。
ポンプはカップリング側から見て、反時計回りに回転します。ポンプのスラリー入口は右側、スラリー出口は左側にあります。スラリー入口と出口の位置を変更する必要がある場合は、事前に提出して図面と照合する必要があります。
散水リング真空ポンプ
水封式真空ポンプ（水封ポンプとも呼ばれる）は粗真空ポンプであり、到達可能な最終真空度は2000～4000Pa、真空ポンプと組み合わせたユニットの真空度は1～600Paに達する。水封ポンプは圧縮機としても使用でき、水封式圧縮機と呼ばれる。水封式圧縮機は、ゲージ圧1～2×10⁵Paの低圧圧縮機である。
水封式真空ポンプの利点：
1. 構造がシンプルで、製造精度は高くなく、加工しやすい。
2. 構造がコンパクトで、ポンプの回転速度が速く、減速装置を必要とせず、一般的にモーターに直接接続できます。そのため、構造サイズが小さくても大きな排気量が得られ、設置面積も小さくて済みます。
3. 圧縮ガスは基本的に等温であり、つまり圧縮ガスの温度変化は小さい。
4. ポンプ内部に金属摩擦面がないため、ポンプに潤滑油を塗布する必要がなく、摩耗も非常に小さい。回転部と固定部の間のシールは、ウォーターシールによって直接行うことができる。
5. 吸引力が均一で、動作が安定しており信頼性が高く、操作が簡単で、メンテナンスも容易です。
二重流遠心ポンプ
S型およびSH型遠心ポンプは、単段両吸込式横型分割遠心ポンプであり、清浄な水や水と類似した物理的・化学的性質を持つ液体の移送に使用されます。移送液の最高温度は80℃以下であり、製紙工場、鉱山、都市、発電所の給排水、農地の灌漑排水、各種水利事業などに適しています。
モデルSの遠心ポンプは、カップリング側からポンプ本体を見た状態で、時計回りに回転します。ポンプの吸込口は右側、吐出口は左側にあります。吸込口と吐出口の位置を変更する必要がある場合は、製造前にご説明ください。
SH型遠心ポンプは、カップリング側からポンプを見た場合、反時計回りに回転します。ポンプの吸込口は左側、吐出口は右側です。吸込口と吐出口の位置を変更する必要がある場合は、製造前にご説明ください。
遠心ポンプのベアリングはポンプ本体の両端に配置されており、運転中の力が均等に分散されるため、長寿命です。ポンプ本体は中央部が開いているため、カバーを開けるだけで修理が可能で、非常に便利です。
スラリーポンプ、中程度の粘度のスラリーポンプ
二重流路式非目詰まり型パルプポンプは、新型の省エネ型パルプポンプです。実用化後、高効率、漏れなしまたは漏れが少ない、優れた目詰まり防止性能、安定した運転、高い信頼性、コンパクトな構造、長い耐用年数といった利点が実証されています。このシリーズのポンプは、製紙・パルプ製造工程の特性に合わせて革新・改良され、流体工学と流体力学の最適な応用を実現しています。
半開放型または全開放型のインペラを採用し、摩耗板とインペラ間の前面クリアランスを調整可能とし、シャフトシールは主にメカニカルシールを採用し、高精度ベアリング（D級精度）と高品質のシャフト材料を選定しています。
温度が110℃以下、濃度が6%以下の軽工業、製紙業などの産業で幅広く使用できます。また、工業用水や都市用水の供給、排水などにも使用可能です。特別な仕様は個別に設計できます。
詳細な写真
当社の強み
1. 完全に開放された3枚羽根インペラ、広い流路、目詰まりのない強力な性能。
2. インペラの吸込側と吐出側には、渦電流ケーシングを保護するために耐摩耗性ライニングが使用されています。
3. 新しい保護カバーのデザインにより、分解が容易になりました。
4. 全く新しいシャーシ設計により、より頑丈になり、カップリングの調整もより便利になりました。
私たちのプロフェッショナルチーム
2008年に設立されたHuatao Groupは、製紙機械、パルプ製造機械、段ボール製造ライン、製紙機械カバー（PMC）、および紙・板紙機械用スペアパーツの輸出において長い歴史を持つ、製紙・パルプ工場機械の専門サプライヤーです。設立以来、当社は「Huatao」を他社とは一線を画す信頼できる国際ブランドとして確立することに尽力してまいりました。数々の著名な製紙機械メーカーや製紙機械カバー工場との長期的なパートナーシップは、高品質な製紙・板紙機械の専門的な設計と納期厳守、そして優れた顧客サービスに至るまで、この目標の実現に注力しています。
CHINAMFGは長年にわたり、パルプ・製紙業界におけるグローバル顧客へのサービス提供において豊富な経験を積み重ねてきました。つまり、当社は業界を深く理解しており、お客様それぞれの生産ニーズに的確に対応した適切な抄紙機や抄紙機用ファブリックを提供できる能力を備えています。CHINAMFGはこれまでに1000社以上の企業にサービスを提供し、製品は世界100以上の国と地域に輸出されています。
品質こそが永続性の鍵であるという信念に基づき、当社チーム一同は、信頼できるパートナーとして、お客様からの継続的な信頼と絶え間ないご支援をいただけるよう、日々努力を重ねております。
| アフターサービス: | 1ヶ月 |
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| 保証： | 1ヶ月 |
| 作動圧力: | 高圧ポンプ |
| インペラの流入タイプ: | ダブルサクションポンプ |
| ポンプシャフトの位置: | 水平ポンプ |
| ポンプケーシングの組み合わせ: | 水平スプリットポンプ |
| カスタマイズ: |
利用可能
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半導体製造における真空ポンプの役割とは？
真空ポンプは半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たします。以下に詳しく説明します。
半導体製造には、様々な電子機器に使用される集積回路（IC）やその他の半導体デバイスの製造が含まれます。真空ポンプは、半導体製造プロセス全体を通して広く使用され、特定の製造工程に必要な真空状態を作り出し、維持します。
半導体製造における真空ポンプの主な役割は次のとおりです。
1. 成膜プロセス：真空ポンプは、物理蒸着（PVD）や化学蒸着（CVD）などの成膜プロセスで使用されます。これらのプロセスでは、半導体ウェーハ上に材料の薄膜を堆積させ、様々な層やパターンを形成します。真空ポンプは、成膜プロセスの精密な制御に必要な低圧環境を作り出し、均一で高品質な膜形成を実現します。
2. エッチングとクリーニング：真空ポンプは、半導体ウェーハから特定の層や汚染物質を除去するエッチングおよびクリーニングプロセスで使用されます。プラズマエッチングや反応性イオンエッチングなどのドライエッチング技術では、材料のイオン化と除去を促進するために真空環境が必要です。真空ポンプは、効率的なエッチングおよびクリーニングプロセスに必要な低圧状態を作り出すのに役立ちます。
3. イオン注入：イオン注入は、半導体ウェハの特定の領域に不純物を導入して電気特性を変化させるプロセスです。真空ポンプを用いてイオン注入チャンバーを真空状態にすることで、イオンビームの加速と注入を正確かつ制御された状態で行うために必要な真空環境を作り出します。
4. ウェーハのハンドリングと搬送：真空ポンプはウェーハのハンドリングと搬送システムに使用されます。これらのシステムは、プロセスチャンバーからのロードとアンロード、ツール間のロボット搬送、ウェーハアライメントなど、様々な製造工程において、真空吸引力を利用して半導体ウェーハを安全に保持・操作します。
5. ロードロックシステム：ロードロックシステムは、半導体ウェハを大気環境とプロセスチャンバー内の真空環境間で搬送するために使用されます。真空ポンプはロードロックシステムの不可欠なコンポーネントであり、ウェハ搬送に必要な真空状態を生成・維持しながら、汚染リスクを最小限に抑えます。
6. 計測と検査：真空ポンプは、半導体デバイスの特性評価に使用される計測・検査ツールに利用されています。走査型電子顕微鏡（SEM）や集束イオンビーム（FIB）システムなどのこれらのツールは、半導体の構造や欠陥の高解像度画像化と正確な分析を可能にするため、真空環境で動作することがよくあります。
7. リーク検出：真空ポンプは、真空チャンバー、プロセスライン、その他のコンポーネントにおけるリーク検出システムで使用され、リーク検出システムにおけるリーク箇所を特定・特定します。これらのシステムでは、真空ポンプを使用してシステムを真空状態にし、圧力上昇を監視してリークの存在を示唆します。
8. クリーンルーム環境制御：半導体製造施設では、製造工程中の汚染を防ぐためにクリーンルーム環境を維持しています。真空ポンプは、クリーンルームの換気および濾過システムの設計と運用に使用され、粒子を除去し、空気の差圧を制御することで、必要な空気清浄度レベルを維持するのに役立ちます。
半導体製造プロセスで使用される真空ポンプは、業界の厳しい要件を満たすために、多くの場合特殊化されています。高い真空レベル、精密な制御、低い汚染レベル、そして連続運転のための信頼性が求められます。
総じて、真空ポンプは半導体製造に不可欠であり、さまざまなプロセスに必要な真空状態を作り出すことを可能にし、高品質の半導体デバイスの製造を保証します。
真空ポンプは土壌や地下水の浄化に使用できますか?
真空ポンプは土壌や地下水の浄化に広く利用されています。詳しい説明は以下のとおりです。
土壌・地下水浄化とは、土壌や地下水から汚染物質を除去し、環境の質を回復し、人々の健康を守るプロセスを指します。真空ポンプは、汚染された媒体の抽出と処理を容易にすることで、様々な浄化技術において重要な役割を果たします。土壌・地下水浄化における真空ポンプの一般的な用途には、以下が含まれます。
1. 土壌蒸気抽出（SVE）：土壌蒸気抽出は、地下に存在する揮発性汚染物質の浄化技術として広く用いられています。この技術では、井戸や溝を通して地下に真空をかけて土壌から蒸気を抽出します。真空ポンプは圧力勾配を作り出し、蒸気を抽出点へと移動させます。抽出された蒸気は、汚染物質を除去または破壊するために処理されます。真空ポンプは、土壌からの汚染物質の揮発と抽出を促進するために必要な負圧を維持するため、SVEにおいて重要な役割を果たします。
2. 二相抽出（DPE）：二相抽出は、地下から液体（地下水など）と蒸気（揮発性有機化合物など）の両方を同時に抽出する浄化方法です。真空ポンプを用いて抽出井または抽出ポイントに真空状態を作り出し、液体と蒸気の両方の相を抜き出します。抽出された地下水と蒸気は分離され、適切な処理が行われます。真空ポンプは、DPEシステムにおいて、液体と蒸気の両方の相を持つ汚染物質を効率的かつ制御された方法で抽出するために不可欠です。
3. 地下水の汲み上げと処理：真空ポンプは、汲み上げと処理のプロセスを通じて地下水浄化にも利用されています。井戸や回収溝から汚染された地下水を汲み上げるために使用されます。真空ポンプは真空状態または負圧を作り出すことで、汲み上げ地点への地下水の流れを促進します。汲み上げた地下水は、排出または地中への再注入前に、汚染物質を除去または中和するための処理が行われます。真空ポンプは、効果的な地下水汲み上げと処理に必要な流量と動水勾配を維持する上で重要な役割を果たします。
4. エアスパージング：エアスパージングは、揮発性有機化合物（VOC）で汚染された地下水や土壌の処理に用いられる浄化技術です。空気または酸素を地下に注入することで、汚染物質の揮発を促進します。エアスパージングシステムでは、汚染された井戸や汚染地域周辺の地点に真空または負圧のゾーンを作り出すために真空ポンプが利用されます。これにより、土壌中の空気と酸素の移動が促進され、VOCの放出と揮発が促進されます。真空ポンプは、汚染物質を効果的に除去するために必要な負圧勾配を維持するため、エアスパージングに不可欠です。
5. 真空促進回収：真空促進回収（真空促進抽出とも呼ばれる）は、地下から非水相液体（NAPL）または高濃度非水相液体（DNAPL）を回収するための修復技術です。真空ポンプを用いて、回収井またはトレンチ内に真空または負圧勾配を作り出します。これにより、NAPLまたはDNAPLが回収地点へと移動し、抽出されます。真空ポンプは、従来のポンプ方法では容易に回収できない可能性のあるこれらの高濃度汚染物質を効率的に回収することを可能にします。
土壌および地下水の浄化には、浄化技術の具体的な要件と汚染物質の性質に応じて、ロータリーベーンポンプ、液封ポンプ、空冷ポンプなどのさまざまなタイプの真空ポンプが使用される可能性があることに注意することが重要です。
まとめると、真空ポンプは、土壌蒸気抽出、二相抽出、地下水揚水・処理、エアースパージング、真空促進回収など、様々な土壌・地下水浄化技術において重要な役割を果たしています。真空ポンプは、必要な圧力差を作り出し、維持することで、汚染物質の効率的な抽出、処理、除去を可能にし、土壌と地下水の水質回復に貢献します。
真空ポンプの主な用途は何ですか?
真空ポンプは様々な業界で幅広く使用されています。詳しい説明は以下のとおりです。
1. 工業プロセス:
真空ポンプは、次のようなさまざまな産業プロセスで重要な役割を果たします。
– 真空蒸留：真空ポンプは蒸留プロセスで使用され、物質の沸点を下げ、さまざまな化学物質や化合物の分離と精製を可能にします。
– 真空乾燥: 真空ポンプは低圧環境を作り出して乾燥プロセスを助け、過度の熱をかけずに材料からの水分除去を促進します。
– 真空包装：食品業界では、真空ポンプを使用して包装容器から空気を除去し、酸素への曝露を減らすことで生鮮食品の保存期間を延ばしています。
– 真空ろ過: ろ過プロセスでは、真空ポンプを使用して吸引力を加えることでろ過速度を高め、固体と液体の分離を高速化できます。
2. 研究室と研究：
真空ポンプは、さまざまな用途で実験室や研究施設で広く使用されています。
– 真空チャンバー: 真空ポンプは、実験の実施、材料のテスト、または特定の条件のシミュレーションのために、チャンバー内に制御された低圧環境を作成します。
– 質量分析：質量分析計では、サンプルのイオン化と分析に必要な真空状態を作り出すために、真空ポンプがよく使用されます。
– 凍結乾燥: 真空ポンプにより凍結乾燥プロセスが可能になります。凍結乾燥プロセスでは、サンプルを凍結してから真空状態にすることで、凍結した水を固体から蒸気状態に直接昇華させることができます。
– 電子顕微鏡：真空ポンプは電子顕微鏡技術に不可欠であり、サンプルの高解像度画像化に必要な真空環境を提供します。
3. 半導体・エレクトロニクス産業：
高真空ポンプは、半導体およびエレクトロニクス産業の製造およびテストプロセスにおいて非常に重要です。
– 半導体製造：真空ポンプは、堆積、エッチング、イオン注入プロセスなど、チップ製造のさまざまな段階で使用されます。
– 薄膜堆積: 真空ポンプは、太陽電池パネル、光学コーティング、電子部品の製造で行われるように、基板上に材料の薄膜を堆積するために必要な真空状態を作り出します。
– リーク検出: 真空ポンプは、電子部品、システム、またはパイプラインの漏れを検出して特定するためのリークテストアプリケーションで利用されます。
4. 医療とヘルスケア：
真空ポンプは医療およびヘルスケア分野でさまざまな用途に使用されています。
– 真空補助創傷閉鎖：真空ポンプは陰圧創傷治療（NPWT）で使用され、制御された真空環境を作り出して創傷治癒と余分な体液の除去を促進します。
– 実験装置: 真空ポンプは、真空オーブン、凍結乾燥機、遠心濃縮機などの医療機器や科学機器に不可欠です。
– 麻酔と医療用吸引：真空ポンプは麻酔器や医療用吸引装置で吸引力を発生させ、患者の体から体液やガスを除去するために使用されます。
5. HVACと冷凍：
真空ポンプは HVAC (暖房、換気、空調) および冷凍業界で採用されています。
– 冷凍・空調システム: 真空ポンプは、システムの設置、メンテナンス、修理時に冷凍・空調システムから水分と空気を排出し、効率的な動作を確保するために使用されます。
– 真空断熱パネル：真空ポンプは、建物や家電製品に優れた断熱特性を提供する真空断熱パネルの製造に利用されます。
6. 発電:
真空ポンプは発電用途で重要な役割を果たします。
– 蒸気凝縮器システム: 真空ポンプは発電所で蒸気凝縮器システムから非凝縮性ガスを除去し、熱効率を向上させるために使用されます。
– ガス回収：真空ポンプは、原子力発電所、研究用原子炉、粒子加速器などで水素やヘリウムなどのガスを回収して除去するために使用されます。
これらは真空ポンプの主な用途のほんの一例です。真空ポンプは汎用性と幅広い種類を誇り、多くの産業において不可欠な存在であり、様々な製造プロセス、研究、そして技術の進歩に貢献しています。
編集者：CX 2023-11-11
