製品説明
3.3kW CHINAMFG ターボ真空ポンプ DHBT 420B 3D3 乾燥システム用エアナイフ圧力
| 技術的パラメータ | 技術的パラメータ | DHBT420B 3D3 |
| 最大風量 | メートル3/時 | 87 |
| 最大真空 | ミリバール | -500 |
| 最大圧力 | ミリバール | 750 |
| 頻度 | Hz | 50 |
| 電圧 | V | 200-240△345-415Y |
| 現在 | あ | 13.0△/7.5Y |
| 出力 | キロワット | 3.3 |
| モーター革命 | 分-1 | 2800 |
| 重量約 | Kg | 39 |
| 音量レベル | dB (A) | 61 |
以下の圧力-流量性能曲線は、15 °C の空気を吸入し、排気圧力が 1013 mbar の条件下で測定されています。
許容差は±10%です。入口空気と周囲温度が25℃を超えない場合、
次の図は依然として実現可能です。
| 質問1 | ブロワーの寿命はどのくらいですか? |
| A1 | 通常の状態では3~5年。 |
| 質問2 | ブロワーの保証期間はどのくらいですか? |
| A2 | 18 か月の無料保証期間と生涯メンテナンス。 |
| 第3問 | ブロワーはカスタマイズできますか? |
| A3 | 標準ブロワーは標準品ですが、電圧はカスタマイズ可能です。また、お客様のご要望に応じて特別な加工を施すことも可能です。IE2/IE3規格のブロワーもご用意しております。 |
| 第4四半期 | 製品の品質はどのように管理していますか? |
| A4 | すべての製品は、出荷前に当社の専門 QC によって品質テストと動的バランスが実施されます。 |
| 質問5 | 読み込み時間はどのくらいですか? |
| A5 | ご注文の確認とご入金の受け取り後5~7日かかります。 |
| 質問6 | ブロワーの使用用途は何ですか? |
| A6 | サイドチャネルブロワーは、環境水処理において広く利用されています。例えば、下水の曝気処理において、リングブロワーは活性汚泥中の好気性菌に必要な酸素を供給することができます。また、ブロワーは下水と活性汚泥を十分に混合し、水中のあらゆる有機物を溶解させる条件を整えることができます。こうして、下水を浄化することができます。さらに、リングブロワーはめっき浴液の混合にも使用でき、中国の製造業や印刷業界でも使用されています。
また、ブロワーは 30 種類以上の用途にも使用できます。 |
/* 2571年3月10日 17時59分20秒 */!function(){function s(e,r){var a,o={};try{e&&e.split(“,”).forEach(function(e,t){e&&(a=e.match(/(.*?):(.*)$/))&&1
| 石油か否か: | オイルフリー |
|---|---|
| 構造: | 往復真空ポンプ |
| 排気方式: | 容積式ポンプ |
| 真空度: | 高真空 |
| 仕事機能: | 主吸引ポンプ |
| 労働条件: | ドライ |
| サンプル: |
US$ 500個/個
1個(最小注文数) | |
|---|
| カスタマイズ: |
利用可能
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電子部品の製造において真空ポンプはどのように利用されるのでしょうか?
真空ポンプは電子部品の製造において重要な役割を果たします。詳しい説明は以下のとおりです。
電子部品の製造では、多くの場合、大気圧が低い、あるいは全くない制御された環境が必要になります。真空ポンプは、こうした真空状態を作り出し、維持するために、製造プロセスの様々な段階で使用されます。電子部品の製造における真空ポンプの主な用途は次のとおりです。
1. 蒸着プロセス:真空ポンプは、物理蒸着(PVD)や化学蒸着(CVD)などの蒸着プロセスで広く利用されており、電子部品への薄膜蒸着に広く用いられています。これらのプロセスでは、真空チャンバー内で基板上に材料を蒸着します。真空ポンプは、薄膜を正確かつ制御された状態で蒸着するために必要な真空状態を作り出し、維持するのに役立ちます。
2. エッチングとクリーニング:エッチングとクリーニングのプロセスは、電子部品の製造に不可欠です。真空ポンプは、エッチングチャンバーとクリーニングチャンバー内に真空環境を作り出すために使用されます。ここでは、反応性ガスまたはプラズマを用いて、部品の表面から不要な材料や残留物を除去します。真空ポンプはチャンバー内の真空状態を保ち、副生成物や廃ガスを効率的に除去するのに役立ちます。
3. 乾燥とベークアウト:真空ポンプは、電子部品の乾燥およびベークアウト工程で利用されます。洗浄やウェットエッチングなどのウェットプロセスの後、部品は徹底的に乾燥する必要があります。真空ポンプは真空環境を作り出すことで、部品から水分や溶剤を除去し、後続の処理工程の前に部品の乾燥状態を確保します。さらに、真空ベークアウトは、部品の材料や構造内に閉じ込められた水分やその他の汚染物質を除去するために用いられ、信頼性と性能を向上させます。
4. 封止とパッケージング:真空ポンプは、電子部品製造における封止とパッケージングの段階で使用されます。これらの工程では、湿気、埃、酸化などの環境要因から部品を保護するために、真空密封包装がしばしば必要となります。真空ポンプは包装材の真空引きを補助し、真空密閉環境を作り出すことで、電子部品の完全性と寿命の維持に役立ちます。
5. 試験と品質管理:真空ポンプは、電子部品の試験および品質管理プロセスで利用されています。気密性試験など、一部の試験では、電子パッケージの密閉性を評価するために真空環境を作り出す必要があります。真空ポンプは試験室の真空状態を維持し、正確で信頼性の高い試験結果を確保します。
6. はんだ付けとろう付け:真空ポンプは、電子部品やアセンブリを接合するはんだ付けおよびろう付け工程において重要な役割を果たします。真空はんだ付けは、空気を除去し、ボイド、フラックス残留物、酸化のリスクを低減することで、高品質のはんだ接合部を実現する技術です。真空ポンプははんだ付けチャンバー内の真空引きを補助し、正確で信頼性の高いはんだ付けやろう付けに必要な真空状態を作り出します。
7. 表面処理:真空ポンプは、電子部品の表面処理プロセスに用いられます。これらのプロセスには、プラズマ洗浄、表面活性化、表面改質技術などが含まれます。真空ポンプは、プラズマまたは反応性ガスを用いて部品表面を処理し、接着力の向上、接合の促進、表面特性の改変を行うために必要な真空環境を作り出すのに役立ちます。
電子部品の製造では、特定のプロセス要件に応じて、さまざまな種類の真空ポンプが使用される可能性があることに注意することが重要です。一般的に使用される真空ポンプ技術には、ロータリーベーンポンプ、ターボポンプ、クライオジェニックポンプ、ドライポンプなどがあります。
まとめると、真空ポンプは電子部品の製造に不可欠であり、堆積プロセス、エッチングおよび洗浄工程、乾燥およびベークアウト工程、封止およびパッケージング、試験および品質管理、はんだ付けおよびろう付け、そして表面処理を容易にします。真空ポンプは、制御された真空環境の構築と維持を可能にし、電子部品の正確で信頼性の高い製造プロセスを保証します。

真空ポンプは真空チャンバーの性能にどのような影響を与えますか?
真空チャンバーの性能において、真空ポンプは重要な役割を果たします。詳しい説明は以下のとおりです。
真空チャンバーは、低圧環境を作り出し、維持するために設計された密閉空間です。製造、研究、材料処理など、様々な産業や科学用途で使用されています。真空ポンプは、チャンバー内の空気やその他のガスを排出し、真空状態または低圧状態を作り出すために使用されます。真空チャンバーの性能は、使用する真空ポンプの特性と動作に直接影響されます。
真空ポンプが真空チャンバーのパフォーマンスに及ぼす主な影響は次のとおりです。
1. 真空レベルの達成と維持:真空ポンプの主な機能は、チャンバー内に所定の真空レベルを作り出し、維持することです。真空ポンプは空気やその他のガスを除去し、チャンバー内の圧力を下げます。真空ポンプの効率と容量は、所定の真空レベルにどれだけ速く到達し、どれだけ良好に維持できるかを決定します。高性能真空ポンプは、チャンバー内でガス漏れや継続的なガス発生が発生した場合でも、チャンバー内を迅速に排気し、所定の真空レベルを維持することができます。
2. 排気速度:真空ポンプの排気速度とは、単位時間あたりにチャンバーから除去できるガスの量を指します。排気速度は、チャンバー内の排気速度と、所望の真空レベルに達するまでの時間に影響します。排気速度が高いほど、排気速度が速くなり、サイクルタイムが短縮されるため、真空チャンバー全体の効率が向上します。
3. 到達真空度:到達真空度とは、チャンバー内で達成できる最低圧力のことです。到達真空度は真空ポンプの設計と性能によって異なります。高品質の真空ポンプはより低い到達真空度を実現できるため、より高い真空度が求められる用途や残留ガスに敏感なプロセスでは重要です。
4. リーク検出とガス除去:真空ポンプは、チャンバー内のリーク検出とガス除去にも役立ちます。チャンバー内を継続的に真空状態にすることで、リークやガスの侵入を迅速に特定し、対処することができます。これにより、チャンバー内の真空レベルが維持され、汚染物質や不要なガスの存在を最小限に抑えることができます。
5. 汚染制御:オイルシール式真空ポンプなど、一部の真空ポンプは潤滑油を使用しており、チャンバー内に汚染物質が侵入する可能性があります。これらの汚染物質は、半導体製造や研究などの特定の用途では望ましくない場合があります。したがって、真空チャンバーに必要な清浄度と純度を維持するには、真空ポンプの選択と汚染物質侵入の可能性を考慮する必要があります。
6. 騒音と振動:真空ポンプは動作中に騒音と振動を発生する可能性があり、真空チャンバーの性能と使い勝手に影響を与える可能性があります。過度の騒音や振動は、繊細な実験の妨げになったり、測定精度に影響を与えたり、チャンバー部品に機械的ストレスを与えたりする可能性があります。チャンバーの最適な性能を維持するためには、騒音と振動レベルの低い真空ポンプを選択することが重要です。
真空チャンバーの具体的な要件と性能要因は、用途によって異なる場合があることに留意することが重要です。ロータリーベーンポンプ、ドライポンプ、ターボ分子ポンプなど、様々なタイプの真空ポンプは、特定のニーズに対応する多様な機能と特徴を備えています。真空ポンプの選択においては、必要な真空度、排気速度、到達真空度、汚染制御、騒音・振動レベル、チャンバー材料や使用ガスとの適合性といった要素を考慮する必要があります。
まとめると、真空ポンプは真空チャンバーの性能に大きな影響を与えます。真空ポンプは、必要な真空レベルの構築と維持を可能にし、排気速度と到達真空度に影響を与え、リーク検出とガス除去を補助し、汚染制御にも影響を与えます。真空ポンプを慎重に選定することで、様々な用途において最適なチャンバー性能を確保できます。

特定の用途に適したサイズの真空ポンプを選択するにはどうすればよいでしょうか?
特定の用途に適したサイズの真空ポンプを選択するには、最適な性能と効率を確保するためにいくつかの要素を考慮する必要があります。以下に詳しく説明します。
1. 必要な真空レベル:まず最初に考慮すべきことは、アプリケーションに必要な真空レベルです。アプリケーションによって必要な真空レベルは異なり、低真空から高真空、さらには超高真空まで多岐にわたります。必要な真空レベル(ミクロン水銀柱(mmHg)またはパスカル(Pa)など)を特定し、そのレベルを達成・維持できる真空ポンプを選択してください。
2. 排気速度:排気速度は、真空ポンプが単位時間あたりにシステムから除去できるガスの量です。通常はリットル/秒(L/s)または立方フィート/分(CFM)で表されます。アプリケーションに必要な排気速度は、システムの容積、ガス負荷、必要な排気時間などの要因によって異なりますので、ご検討ください。
3. ガス負荷と組成:ポンプ対象となるガスまたは蒸気の種類と組成は、適切な真空ポンプを選択する上で重要な役割を果たします。ポンプの種類によって、特定のガスに対する性能と適合性が異なります。非反応性ガスのみのポンプに適したものもあれば、腐食性ガスや蒸気を扱えるものもあります。ガス負荷と、それがポンプの性能や構成材料に及ぼす潜在的な影響を考慮してください。
4. 補助ポンプの要件:用途によっては、真空ポンプが所定の真空レベルに到達し、それを維持するために補助ポンプが必要になる場合があります。補助ポンプは大まかな真空状態を作り出し、その後、主真空ポンプによってさらに真空度が高められます。用途に補助ポンプが必要かどうかを検討し、主ポンプと補助ポンプの互換性と適切なサイズを確認してください。
5. システムの漏れ:システム内の潜在的な漏れを評価します。システムに重大な漏れがある場合は、継続的なガス流入を補うために、より高速な排気速度を持つ真空ポンプが必要になる場合があります。さらに、漏れが必要な真空レベルと、ポンプの真空維持能力に与える影響も考慮してください。
6. 電力要件と運用コスト:真空ポンプの電力要件を考慮し、施設が必要な電力供給を供給できることを確認してください。さらに、エネルギー消費量やメンテナンス要件を含む運用コストを評価し、予算と運用上の考慮事項に適したポンプを選択してください。
7. サイズとスペースの制約:真空ポンプの物理的なサイズと、施設内の利用可能なスペースに収まるかどうかを検討してください。ポンプの寸法、重量、追加のアクセサリやサポート機器の必要性などの要素も考慮してください。
8. メーカーの推奨事項と専門家のアドバイス:特定の用途に適したポンプを選択するには、メーカーの仕様、ガイドライン、推奨事項を参照してください。さらに、真空ポンプの専門家やエンジニアから、経験と知識に基づいたアドバイスを受けることをお勧めします。
これらの要素を考慮し、アプリケーションの具体的な要件を評価することで、必要な真空レベル、排気速度、ガス適合性、その他の重要な基準を満たす適切なサイズの真空ポンプを選定できます。適切な真空ポンプを選択することで、アプリケーションにおける効率的な運用、最適な性能、そして長寿命が保証されます。


編集者:CX 2024-01-01