产品描述
25千瓦高压真空吸尘器真空泵
| 技术参数 | 技术参数 | DHB 943C 571 |
| 最大气流 | 米3/h | 2050 |
| 最大真空 | 毫巴 | -310 |
| 最大压力 | 毫巴 | 280 |
| 频率 | 赫兹 | 50 |
| 电压 | V | 345-415△600-690Y |
| 当前的 | 一个 | 52.0△/30.0Y |
| 输出 | 千瓦 | 25 |
| 电机转速 | 分钟-1 | 2800 |
| 重量约 | 公斤 | 235 |
| 声级 | 分贝（A） | 75 |
下面的压力-流量性能曲线是在吸入15℃空气和排气压力1013mbar的条件下测量的。
允许的偏差为±10%。当进气温度和环境温度不超过25℃时，
仍然可以实现以下图表。
| Q1 | 鼓风机的使用寿命有多长？ |
| A1 | 正常情况下可保存3-5年。 |
| Q2 | 这款鼓风机的保修期是多久？ |
| A2 | 18个月免费保修期，终身维护。 |
| 第三季度 | 鼓风机可以定制吗？ |
| A3 | 普通风机为标准件，但电压可定制。风机也可根据客户特殊要求进行特殊处理。此外，我们还提供符合IE2/IE3标准的风机。 |
| 第四季度 | 如何控制产品质量？ |
| A4 | 所有产品在交付前均由我司专业的质检人员进行质量检测和动态平衡测试。 |
| Q5 | 加载时间有多长？ |
| A5 | 订单确认并收到定金后 5-7 天。 |
| Q6 | 鼓风机的应用场景有哪些？ |
| A6 | 侧通道鼓风机已广泛应用于环境水处理领域。例如，在污水曝气中，环式鼓风机可以为活性污泥中的好氧微生物提供所需的氧气。此外，鼓风机还能创造条件，使污水和活性污泥充分混合，从而溶解水中各种有机物，进而净化污水。除上述用途外，环式鼓风机还可用于电镀液的混合，并广泛应用于中国制造行业以及印刷行业。
此外，该鼓风机还可用于其他 30 多种不同的用途： |
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| 石油还是其他： | 无油 |
|---|---|
| 结构： | 往复式真空泵 |
| 排气法： | 容积式泵 |
| 真空度： | 高真空 |
| 工作职能： | 主吸泵 |
| 工作条件： | 干燥 |
| 示例： |
US$ 3000/件
1 件（最低订购量） | |
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| 定制化： |
可用的
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真空泵在半导体制造中扮演什么角色？
真空泵在半导体制造过程中发挥着至关重要的作用。以下是详细说明：
半导体制造涉及集成电路（IC）和其他用于各种电子应用的半导体器件的生产。真空泵在整个半导体制造过程中被广泛使用，用于创造和维持特定制造步骤所需的真空条件。
以下是真空泵在半导体制造中的一些关键作用：
1. 沉积工艺：真空泵广泛应用于物理气相沉积 (PVD) 和化学气相沉积 (CVD) 等沉积工艺中。这些工艺涉及将材料薄膜沉积到半导体晶片上，以形成各种层和图案。真空泵有助于创造低压环境，从而实现对沉积过程的精确控制，确保形成均匀且高质量的薄膜。
2. 刻蚀和清洗：真空泵用于刻蚀和清洗工艺，这些工艺涉及从半导体晶圆上去除特定层或污染物。干法刻蚀技术，例如等离子刻蚀和反应离子刻蚀，需要真空环境来促进材料的电离和去除。真空泵有助于创造高效刻蚀和清洗工艺所需的低压条件。
3. 离子注入：离子注入是一种将杂质引入半导体晶片特定区域以改变其电学性能的工艺。真空泵用于抽真空离子注入室，从而创造精确可控的离子束加速和注入所需的真空环境。
4. 晶圆处理与转移：真空泵应用于晶圆处理与转移系统。这些系统利用真空吸力在各种制造步骤中牢固地固定和操作半导体晶圆，例如从工艺腔室装载和卸载晶圆、在工具之间进行机器人转移以及晶圆对准。
5. 装载锁定系统：装载锁定系统用于在大气环境和工艺腔室的真空环境之间转移半导体晶圆。真空泵是装载锁定系统的重要组成部分，它能够产生并维持晶圆转移所需的真空条件，同时最大限度地降低污染风险。
6. 计量与检测：真空泵广泛应用于半导体器件表征的计量与检测工具中。这些工具，例如扫描电子显微镜 (SEM) 和聚焦离子束 (FIB) 系统，通常在真空环境下运行，以实现对半导体结构和缺陷的高分辨率成像和精确分析。
7. 泄漏检测：真空泵用于泄漏检测系统，以识别和定位真空室、工艺管线和其他组件中的泄漏点。这些系统依靠真空泵抽空系统，然后监测压力是否升高，压力升高则表明存在泄漏。
8. 洁净室环境控制：半导体制造工厂需要维持洁净室环境，以防止制造过程中受到污染。真空泵用于洁净室通风和过滤系统的设计和运行，通过去除颗粒物和维持受控的气压差，帮助保持所需的空气洁净度。
半导体制造工艺中使用的真空泵通常是专门设计的，以满足该行业的严格要求。它们需要提供高真空度、精确控制、低污染水平以及连续运行的可靠性。
总的来说，真空泵在半导体制造中不可或缺，它能够为各种工艺创造必要的真空条件，从而确保生产出高质量的半导体器件。
真空泵如何辅助冷冻干燥过程？
冷冻干燥，也称冻干，是一种脱水技术，广泛应用于包括制药在内的各个行业。真空泵在冷冻干燥过程中起着至关重要的作用。以下是详细解释：
在冻干过程中，真空泵有助于去除药物产品中的水分或溶剂，同时保持其结构和完整性。冻干过程包括三个主要阶段：冷冻、初级干燥（升华）和二级干燥（解吸）。
1. 冷冻：第一阶段，将药品冷冻成固态。冷冻通常是通过将药品温度降低到其冰点以下来实现的。然后将冷冻后的药品放入真空室中。
2. 初级干燥（升华）：产品冷冻后，真空泵在腔室内形成低压环境。通过降低压力，冷冻产品中存在的水或溶剂的沸点降低，使其能够通过升华过程直接从固相转化为气相。升华过程绕过了液相，避免了对产品结构造成潜在损害。
真空泵通过持续去除升华过程中产生的水蒸气或溶剂蒸气来维持低压环境。蒸气被抽出腔室，留下冻干产品。该工艺能够保持产品原有的形态、质地和生物活性。
3. 二次干燥（脱附）：大部分水分或溶剂通过升华去除后，冻干产品中可能仍含有残留水分或溶剂。在二次干燥阶段，真空泵继续对干燥室施加真空，但温度更高。此阶段的目的是通过蒸发去除剩余的水分或溶剂。
真空泵维持低压环境，使残留的水分或溶剂在比大气压下更低的温度下蒸发。这可以防止产品发生潜在的热降解。二次干燥进一步提高了冻干药品的稳定性和保质期。
真空泵通过创造和维持低压环境，在冻干过程中实现高效可控的升华和解吸。它们有助于去除水分或溶剂，同时最大限度地减少对产品结构的潜在损害，从而保持产品品质。真空泵还能持续去除升华和蒸发过程中产生的蒸汽，从而提高冻干过程的整体速度和效率。真空泵提供的精确控制确保了冻干药品的稳定性和高质量。
实验室可以使用真空泵吗？
是的，真空泵在实验室中被广泛用于各种用途。以下是详细说明：
真空泵是实验室中必不可少的工具，它使科学家和研究人员能够创建和控制真空或低压环境。这些受控条件对于各种科学过程和实验至关重要。以下是实验室中使用真空泵的一些主要原因：
1. 蒸发和蒸馏：真空泵常用于实验室的蒸发和蒸馏过程中。通过产生真空，真空泵可以降低液体的沸点，从而实现更温和、更可控的蒸发。这对于热敏性物质或需要精确控制蒸发过程的情况尤为有用。
2. 过滤：真空过滤是实验室中常用的分离固体与液体或气体的技术。真空泵产生吸力，帮助液体或气体通过过滤器，而固体颗粒则留在过滤器中。该方法广泛应用于样品制备、微生物学和分析化学等领域。
3. 冷冻干燥：真空泵在冷冻干燥或冻干过程中起着至关重要的作用。冷冻干燥是指在物质处于冷冻状态时去除其水分，从而保持其结构和性质。真空泵促进冰冻水直接升华成蒸汽，从而在低压条件下去除水分。
4. 真空烘箱和真空室：真空泵与真空烘箱和真空室配合使用，可为各种应用创造可控的低压环境。真空烘箱用于干燥热敏材料、去除溶剂或在减压下进行反应。真空室用于在模拟太空或高海拔条件下测试部件、对材料进行脱气处理或研究真空相关现象。
5. 分析仪器：许多实验室分析仪器需要真空泵才能正常工作。例如，质谱仪、电子显微镜、表面分析设备和其他分析仪器通常需要在真空条件下工作，以保持样品完整性并获得准确的结果。
6. 化学与材料科学：真空泵广泛应用于化学和材料科学实验中。它们用于样品脱气、创建可控气氛、在减压下进行反应或研究气相反应。真空泵也用于薄膜沉积技术，例如物理气相沉积 (PVD) 和化学气相沉积 (CVD)。
7. 实验用真空系统：在科学研究中，真空系统通常是为特定的实验或应用而设计和建造的。这些系统可能包含多个真空泵、阀门和真空室，以创建满足实验要求的专用真空环境。
总体而言，真空泵是一种用途广泛的工具，在各个科学领域的实验室中得到广泛应用。它们使研究人员能够控制和调节真空或低压条件，从而促进各种工艺、实验和分析。真空泵的选择取决于多种因素，例如所需的真空度、流速、化学兼容性和具体应用需求。
编辑：CX 2024-04-16
