製品説明
廃水処理用横型正圧スクリューポンプ（売れ筋商品）
製品紹介
シングルスクリューポンプは、中性または腐食性、清浄または研磨性、ガス含有または気泡発生しやすい、高粘度または低粘度、繊維または粒子を含む液体など、単一または複数の媒体の流体を移送するために使用でき、さまざまな産業分野で広く使用されています。
性能パラメータ表
| モデル | 流量（m³/h） | 揚程（メートル） | 圧力（MPa） | 回転速度（回転/分） | モーター出力（kW） | 入口（mm） | 出口（mm） |
| G25-1 | 2 | 60 | 0.6 | 960 | 1.5 | Dg32 | Dg25 |
| G25-2 | 2 | 120 | 1.2 | 2.2 | Dg32 | Dg25 | |
| G30-1 | 5 | 60 | 0.6 | 2.2 | DG50 | Dg40 | |
| G30-2 | 5 | 120 | 12 | 3.0 | DG50 | Dg40 | |
| G35-1 | 8 | 60 | 0.6 | 3.0 | Dg65 | DG50 | |
| G35-2 | 8 | 120 | 12 | 4.0 | Dg65 | DG50 | |
| 040-1 | 12 | 60 | 06 | 4.0 | DG80 | Dg65 | |
| G40-2 | 12 | 120 | 12 | 55 | DG80 | Dg65 | |
| G50-1 | 20 | 60 | 0.6 | 55 | DG100 | DG80 | |
| G50-2 | 20 | 120 | 12 | 75 | DG100 | DG80 | |
| G60-1 | 30 | 60 | 0.6 | 11 | Dg125 | DQ100 | |
| G60-2 | 30 | 120 | 12 | 15 | Dg125 | DG100 | |
| G70-1 | 45 | 60 | 0.6 | 15 | DG150 | Dg125 |
動作原理
スクリューポンプは推進式容積ポンプであり、主な構成要素はローターとステーターです。ローターは大きなリードと大きな歯高、小さな螺旋内径を持つスクリュー（ローター）で、ステーターは二重のねじ山とスクリュースリーブで嵌合されており、ローターとステーターの間に貯蔵媒体空間が形成されます。ローターがステーター内で回転すると、媒体は軸方向に沿って吸込端から吐出されます。
性能パラメータ表
| モデル | L1 | L2 | L3 | L4 | L5 | H | H1 | B | B1 | |
| G25-1 | 100 | 400 | 400 | 315 | 1130 | 150 | 250 | 160 | 180 | 14×6 |
| 571-2 | 95 | 455 | 485 | 450 | 1270 | 160 | 265 | 160 | 180 | 14×6 |
| G30-1 | 90 | 540 | 545 | 400 | 1265 | 200 | 325 | 200 | 200 | 16×6 |
| G30-2 | 100 | 560 | 570 | 550 | 1520 | 210 | 335 | 200 | 240 | 16×6 |
| G35-1 | 100 | 475 | 525 | 440 | 1400 | 210 | 330 | 200 | 240 | 16×6 |
| G35-2 | 100 | 580 | 640 | 620 | 1610 | 215 | 340 | 200 | 240 | 16×6 |
| G40-1 | 100 | 615 | 685 | 500 | 1700 | 220 | 340 | 210 | 240 | 16×6 |
| G40-2 | 110 | 620 | 664 | 715 | 1925 | 230 | 350 | 210 | 240 | 18×6 |
| G50-1 | 110 | 620 | 634 | 650 | 1750 | 230 | 365 | 220 | 240 | |
| G50-2 | 110 | 730 | 750 | 735 | 1975 | 240 | 380 | 230 | 295 | |
| G60-1 | 120 | 690 | 690 | 600 | 1850 | 250 | 415 | 240 | 295 | |
| G60-2 | 120 | 810 | 820 | 940 | 2180 | 255 | 420 | 260 | 320 | |
| G70-1 | 120 | 720 | 730 | 780 | 1995 | 275 | 450 | 280 | 320 | 20×6 |
利点
遠心ポンプと比較して、スクリューポンプはバルブを取り付ける必要がない。流量は安定しており、直線的である。
プランジャーポンプと比較して、スクリューポンプは強力な自吸能力と高い吸引高さを備えている。
ダイヤフラムポンプと比較して、スクリューポンプは、ガス、粒子、繊維媒体を含むさまざまな混合不純物を輸送することができ、さまざまな腐食性物質も輸送できます。
ギアポンプと比較して、スクリューポンプは高粘度の物質を輸送することができる。
プランジャーポンプ、ダイヤフラムポンプ、ギアポンプとは異なり、スクリューポンプは試薬の充填と計量に使用できます。
W仕事の特性
ステータとロータに接触するらせん状のシールが流入室と吐出室を完全に分離するため、ポンプはバルブと同様の遮断効果を発揮します。
-液体、気体、CHINAMFGの多相混合輸送が実現可能です。
ポンプ内を流体が流れる際に体積は変化せず、乱流や脈動も発生しない。
-弾性ステータによって形成される容積空洞は、CHINAMFG粒子を含む媒体の摩耗を効果的に低減することができます。
-入力媒体粘度最大5000MPa-S CHINAMFG含有量最大50%。
流量は回転速度に比例し、ガバナーを用いることで流量の自動調整が可能となる。
ポンプには、正圧搬送用と負圧搬送用がある。
応用分野
1. 汚泥処理：下水、汚れた油、固形物を含むスラッジ、およびあらゆる種類の化学物質。
2. 化学工業：酸、アルカリ、塩、各種粘稠ペースト状エマルジョン化学スラリー、成形軟膏、染料、顔料、インク、塗料。
3. エネルギー産業：各種燃料油（石油、原油、軽油）、石油、石炭、水、石炭スラリー、石炭スラッジ、核廃棄物。
4. 製紙産業：各種セルロースおよびパルプ、塗料、黒液処理など。
5. 陶磁器産業：カオリン、耐火粘土、釉薬、ベントナイト、シリカ。
6. 探査および採掘：あらゆる種類の掘削泥水、トンネル掘削、石油、水、コンクリートの多相混合輸送。
7. 医薬品、食品、化粧品業界、あらゆる種類のシロップ、ジャム、澱粉ペースト、ペースト、ホップ、マッシュポテト、アルコール、チョコレートなど。
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製品の詳細
会社概要
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| アフターサービス: | オンラインサービス |
|---|---|
| 保証： | 1年 |
| ネジ番号: | シングルスクリューポンプ |
| スクリュー吸着方式： | シングル吸引 |
| ポンプシャフトの位置: | 水平 |
| パフォーマンス： | 漏れなし |
| カスタマイズ: |
利用可能
|
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|---|
半導体製造における真空ポンプの役割とは？
真空ポンプは半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たします。以下に詳しく説明します。
半導体製造には、様々な電子機器に使用される集積回路（IC）やその他の半導体デバイスの製造が含まれます。真空ポンプは、半導体製造プロセス全体を通して広く使用され、特定の製造工程に必要な真空状態を作り出し、維持します。
半導体製造における真空ポンプの主な役割は次のとおりです。
1. 成膜プロセス：真空ポンプは、物理蒸着（PVD）や化学蒸着（CVD）などの成膜プロセスで使用されます。これらのプロセスでは、半導体ウェーハ上に材料の薄膜を堆積させ、様々な層やパターンを形成します。真空ポンプは、成膜プロセスの精密な制御に必要な低圧環境を作り出し、均一で高品質な膜形成を実現します。
2. エッチングとクリーニング：真空ポンプは、半導体ウェーハから特定の層や汚染物質を除去するエッチングおよびクリーニングプロセスで使用されます。プラズマエッチングや反応性イオンエッチングなどのドライエッチング技術では、材料のイオン化と除去を促進するために真空環境が必要です。真空ポンプは、効率的なエッチングおよびクリーニングプロセスに必要な低圧状態を作り出すのに役立ちます。
3. イオン注入：イオン注入は、半導体ウェハの特定の領域に不純物を導入して電気特性を変化させるプロセスです。真空ポンプを用いてイオン注入チャンバーを真空状態にすることで、イオンビームの加速と注入を正確かつ制御された状態で行うために必要な真空環境を作り出します。
4. ウェーハのハンドリングと搬送：真空ポンプはウェーハのハンドリングと搬送システムに使用されます。これらのシステムは、プロセスチャンバーからのロードとアンロード、ツール間のロボット搬送、ウェーハアライメントなど、様々な製造工程において、真空吸引力を利用して半導体ウェーハを安全に保持・操作します。
5. ロードロックシステム：ロードロックシステムは、半導体ウェハを大気環境とプロセスチャンバー内の真空環境間で搬送するために使用されます。真空ポンプはロードロックシステムの不可欠なコンポーネントであり、ウェハ搬送に必要な真空状態を生成・維持しながら、汚染リスクを最小限に抑えます。
6. 計測と検査：真空ポンプは、半導体デバイスの特性評価に使用される計測・検査ツールに利用されています。走査型電子顕微鏡（SEM）や集束イオンビーム（FIB）システムなどのこれらのツールは、半導体の構造や欠陥の高解像度画像化と正確な分析を可能にするため、真空環境で動作することがよくあります。
7. リーク検出：真空ポンプは、真空チャンバー、プロセスライン、その他のコンポーネントにおけるリーク検出システムで使用され、リーク検出システムにおけるリーク箇所を特定・特定します。これらのシステムでは、真空ポンプを使用してシステムを真空状態にし、圧力上昇を監視してリークの存在を示唆します。
8. クリーンルーム環境制御：半導体製造施設では、製造工程中の汚染を防ぐためにクリーンルーム環境を維持しています。真空ポンプは、クリーンルームの換気および濾過システムの設計と運用に使用され、粒子を除去し、空気の差圧を制御することで、必要な空気清浄度レベルを維持するのに役立ちます。
半導体製造プロセスで使用される真空ポンプは、業界の厳しい要件を満たすために、多くの場合特殊化されています。高い真空レベル、精密な制御、低い汚染レベル、そして連続運転のための信頼性が求められます。
総じて、真空ポンプは半導体製造に不可欠であり、さまざまなプロセスに必要な真空状態を作り出すことを可能にし、高品質の半導体デバイスの製造を保証します。
クリーンルーム用途向け真空ポンプの選定における考慮事項
クリーンルーム用途の真空ポンプを選定する際には、いくつかの点を考慮する必要があります。以下に詳細を説明します。
クリーンルームは、半導体製造、製薬、バイオテクノロジー、マイクロエレクトロニクスなどの産業で使用される管理された環境です。これらの環境では、繊細なプロセスや製品への汚染を防ぐため、清浄度とパーティクル制御の基準を厳格に遵守する必要があります。クリーンルーム用途に適した真空ポンプを選択することは、必要な清浄度レベルを維持し、汚染物質の侵入を最小限に抑えるために不可欠です。以下に、重要な考慮事項をいくつかご紹介します。
1. 清浄度：クリーンルーム用途では、真空ポンプの清浄度が最も重要です。ポンプは、クリーンルーム環境へのパーティクル、オイル蒸気、その他の汚染物質の発生と放出を最小限に抑えるように設計・製造する必要があります。クリーンルーム用途では、オイル汚染のリスクを排除できるオイルフリーまたはドライ真空ポンプが一般的に好まれます。さらに、表面が滑らかで隙間が少ないポンプは、清掃とメンテナンスが容易で、パーティクルの蓄積の可能性を低減します。
2. アウトガス：アウトガスとは、真空ポンプ自体を含む材料の表面からガスまたは蒸気が放出されることを指します。クリーンルーム用途では、環境への汚染物質の混入を防ぐため、アウトガスの少ない真空ポンプを選択することが重要です。クリーンルーム用に特別に設計された真空ポンプは、この影響を最小限に抑えるために、特別な処理が施されているか、アウトガスの少ない材料が使用されていることがよくあります。
3. パーティクル発生：真空ポンプは、ローターやベーンなどの可動部品の摩擦や摩耗によりパーティクルを発生させる可能性があります。これらのパーティクルはクリーンルーム内の汚染源となる可能性があります。クリーンルーム用途の真空ポンプを選定する際には、ポンプのパーティクル発生レベルを考慮し、パーティクル排出量を最小限に抑えるよう設計・試験されたポンプを選択することが重要です。自己潤滑性材料や高度なシール機構などの機能を備えたポンプは、パーティクル発生の低減に役立ちます。
4. 濾過および排気システム：真空ポンプに関連する濾過および排気システムは、クリーンルームの基準を維持するために不可欠です。真空ポンプには、運転中に発生するあらゆる粒子や汚染物質を捕捉・除去できる効率的なフィルターを装備する必要があります。HEPA（High-Efficiency Particulate Air）フィルターなどの高品質フィルターは、極小の粒子でさえも効果的に捕捉できます。排気システムは、濾過された空気がクリーンルーム外に排出されるか、追加の濾過装置を通過してから再び環境に放出されるように適切に設計する必要があります。
5. 騒音と振動：真空ポンプから発生する騒音と振動は、クリーンルームの運用に影響を及ぼす可能性があります。過度の騒音は作業環境を悪化させ、コミュニケーションを阻害する可能性があります。一方、振動は繊細なプロセスや機器の動作に支障をきたす可能性があります。静音設計で振動を最小限に抑える対策が講じられた真空ポンプを選択することをお勧めします。騒音低減機能と防振システムを備えたポンプは、静かで安定したクリーンルーム環境を維持するのに役立ちます。
6. 規格への準拠：クリーンルーム用途では、多くの場合、特定の業界規格や規制に従う必要があります。真空ポンプを選定する際には、関連するクリーンルーム規格および要件に準拠していることを確認することが重要です。考慮すべき事項としては、ISO清浄度規格、クリーンルームの分類レベル、粒子数、ガス放出レベル、許容騒音レベルに関する業界固有のガイドラインなどが挙げられます。クリーンルーム適合性に関する文書や認証を提供しているメーカーは、コンプライアンスの証明に役立ちます。
7. メンテナンスと保守性：真空ポンプの信頼性と効率性を維持するには、適切なメンテナンスと定期的な点検が不可欠です。クリーンルーム用途の真空ポンプを選ぶ際には、メンテナンスの容易さ、スペアパーツの入手性、メーカーによるサービスとサポートへのアクセスなど、様々な要素を検討してください。ユーザーフレンドリーなメンテナンス機能、明確なサービスマニュアル、そして迅速なカスタマーサポートネットワークを備えたポンプは、ダウンタイムを最小限に抑え、クリーンルームの性能を継続的に維持するのに役立ちます。
まとめると、クリーンルーム用途の真空ポンプを選定する際には、清浄度、アウトガス特性、パーティクル発生、濾過・排気システム、騒音・振動、規格への適合性、メンテナンス要件といった要素を慎重に検討する必要があります。クリーンルーム用に特別に設計された真空ポンプを選択し、これらの重要な要素を考慮することで、クリーンルームのオペレータは必要な清浄度レベルを維持し、重要なプロセスや製品における汚染リスクを最小限に抑えることができます。
HVAC システムにおける真空ポンプの目的は何ですか?
HVAC（暖房・換気・空調）システムにおいて、真空ポンプは重要な役割を果たします。詳しい説明は以下のとおりです。
HVACシステムにおける真空ポンプの目的は、冷媒ラインとシステム自体から空気と水分を除去することです。HVACシステム、特に冷却を必要とするシステムは、熱伝達を促進するために特定の圧力と温度条件下で動作します。最適な性能と効率を確保するには、システムから非凝縮性ガス、空気、水分をすべて除去することが不可欠です。
HVAC システムで真空ポンプが使用される主な理由は次のとおりです。
1. 水分の除去：HVACシステム内には、システムの設置、漏れ、不適切なメンテナンスなど、様々な要因により水分が存在する可能性があります。水分が冷媒と混合すると、氷の形成、システム効率の低下、システム部品の損傷といった問題を引き起こす可能性があります。真空ポンプは、低圧環境を作り出すことで水分を沸騰させて蒸気化し、システムから効果的に排出することで水分を除去します。
2. 空気および非凝縮性ガスの除去：空気や窒素、酸素などの非凝縮性ガスは、設置、修理、あるいは漏れによってHVACシステムに侵入する可能性があります。これらのガスは冷却プロセスを阻害し、熱伝達に影響を与え、システム性能を低下させる可能性があります。技術者は真空ポンプを使用することで、空気と非凝縮性ガスを排出し、システムが設計された冷媒と圧力レベルで動作することを保証します。
3. 冷媒充填の準備：HVACシステムに冷媒を充填する前に、真空状態を作り、汚染物質を除去してシステムをクリーンな状態にし、最適な冷媒循環に備えることが重要です。技術者は真空ポンプを用いてシステムを真空にすることで、冷媒がクリーンで管理された環境に入ることを保証し、システムの故障リスクを低減し、全体的な効率を向上させます。
4. リーク検出：真空ポンプはHVACシステムにおけるリーク検出にも使用されます。システムを真空にした後、技術者は圧力をモニタリングし、圧力が安定しているかどうかを確認できます。圧力の大幅な低下はリークの存在を示しており、技術者はシステムに冷媒を充填する前にリークを特定し、修理することができます。
まとめると、真空ポンプはHVACシステムにおいて、水分の除去、空気および非凝縮性ガスの除去、冷媒充填のためのシステム準備、そして漏れ検出の補助など、重要な役割を果たします。これらの機能は、最適なシステム性能、エネルギー効率、そして長寿命を確保するとともに、システムの故障や損傷のリスクを軽減します。
編集者：CX 2024-03-07
