製品説明
2インチ3インチロータリーベーン真空ポンプの価格
特徴:
YB 内部バイパス バルブを備えた自吸式ロータリー ベーン ポンプ。
ポンプは、スライド羽根を備えたローターを使用して液体を吸い上げます。
構造材料は球状黒鉛鋳鉄で、スライド羽根には特殊な自己潤滑材が組み込まれています。
このポンプは効率が良いため、粘性のある液体や揮発性の液体も処理でき、同等の他のポンプよりも少ない馬力で済みます。
応用:
燃料油配送トラック、艦隊燃料補給、潤滑油、航空機燃料補給車、石油化学製品、ガソリン、バイオ燃料、溶剤などの輸送。
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技術仕様 |
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モデル |
YB-50 |
YB-65 |
YB-80 |
YB-100 |
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サイズ |
50mm/2インチ |
65mm/2 1/2インチ |
80mm/3インチ |
100mm/4インチ |
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ポンプ速度 |
400~640回転 |
400~640回転 |
400~640回転 |
500回転 |
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最大流量 |
150~300L/分 |
300~500L/分 |
600~1000L/分 |
1500~1900L/分 |
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真空 |
0.5バール |
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作動圧力 |
5バー |
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| モーター出力 | 2.2kW | 4kW | 7.5kW | 18.5kW |
| 寸法 | 44×35×35cm | 46×34×37cm | 49×42×42cm | 58×55×61cm |
| 正味重量 | 31キロ | 40キロ | 68キロ | 160キロ |
| 総重量 | 34キロ | 47キロ | 74キロ | 178キロ |
| パッケージ | 1個/木製ケース | |||
よくある質問
1.MOQとは何ですか?
通常1セットで、スペースを占有せず、輸送に重くない高速航空速達で配送できます。
2.OEM または ODM もできますか?
はい、お客様のご要望に応じてロゴとブランドをカスタマイズいたします。
3.機械の品質はどうですか、品質について心配しています。
当社は30年以上にわたり、様々な種類の流量計を製造してきました。IOS9001:2000システムに基づいて厳密に製造・管理しており、すべてのCE規格またはより厳格な規格に適合できます。当社の機械は30か国以上で稼働しています。
| アフターサービス: | 販売サービスあり |
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| 保証: | 1年 |
| 流量: | 可変ポンプ |
| タイプ: | 自吸式オイルポンプ |
| ドライブ: | 電気 |
| パフォーマンス: | 高圧 |

半導体製造における真空ポンプの役割とは?
真空ポンプは半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たします。以下に詳しく説明します。
半導体製造には、様々な電子機器に使用される集積回路(IC)やその他の半導体デバイスの製造が含まれます。真空ポンプは、半導体製造プロセス全体を通して広く使用され、特定の製造工程に必要な真空状態を作り出し、維持します。
半導体製造における真空ポンプの主な役割は次のとおりです。
1. 成膜プロセス:真空ポンプは、物理蒸着(PVD)や化学蒸着(CVD)などの成膜プロセスで使用されます。これらのプロセスでは、半導体ウェーハ上に材料の薄膜を堆積させ、様々な層やパターンを形成します。真空ポンプは、成膜プロセスの精密な制御に必要な低圧環境を作り出し、均一で高品質な膜形成を実現します。
2. エッチングとクリーニング:真空ポンプは、半導体ウェーハから特定の層や汚染物質を除去するエッチングおよびクリーニングプロセスで使用されます。プラズマエッチングや反応性イオンエッチングなどのドライエッチング技術では、材料のイオン化と除去を促進するために真空環境が必要です。真空ポンプは、効率的なエッチングおよびクリーニングプロセスに必要な低圧状態を作り出すのに役立ちます。
3. イオン注入:イオン注入は、半導体ウェハの特定の領域に不純物を導入して電気特性を変化させるプロセスです。真空ポンプを用いてイオン注入チャンバーを真空状態にすることで、イオンビームの加速と注入を正確かつ制御された状態で行うために必要な真空環境を作り出します。
4. ウェーハのハンドリングと搬送:真空ポンプはウェーハのハンドリングと搬送システムに使用されます。これらのシステムは、プロセスチャンバーからのロードとアンロード、ツール間のロボット搬送、ウェーハアライメントなど、様々な製造工程において、真空吸引力を利用して半導体ウェーハを安全に保持・操作します。
5. ロードロックシステム:ロードロックシステムは、半導体ウェハを大気環境とプロセスチャンバー内の真空環境間で搬送するために使用されます。真空ポンプはロードロックシステムの不可欠なコンポーネントであり、ウェハ搬送に必要な真空状態を生成・維持しながら、汚染リスクを最小限に抑えます。
6. 計測と検査:真空ポンプは、半導体デバイスの特性評価に使用される計測・検査ツールに利用されています。走査型電子顕微鏡(SEM)や集束イオンビーム(FIB)システムなどのこれらのツールは、半導体の構造や欠陥の高解像度画像化と正確な分析を可能にするため、真空環境で動作することがよくあります。
7. リーク検出:真空ポンプは、真空チャンバー、プロセスライン、その他のコンポーネントにおけるリーク検出システムで使用され、リーク検出システムにおけるリーク箇所を特定・特定します。これらのシステムでは、真空ポンプを使用してシステムを真空状態にし、圧力上昇を監視してリークの存在を示唆します。
8. クリーンルーム環境制御:半導体製造施設では、製造工程中の汚染を防ぐためにクリーンルーム環境を維持しています。真空ポンプは、クリーンルームの換気および濾過システムの設計と運用に使用され、粒子を除去し、空気の差圧を制御することで、必要な空気清浄度レベルを維持するのに役立ちます。
半導体製造プロセスで使用される真空ポンプは、業界の厳しい要件を満たすために、多くの場合特殊化されています。高い真空レベル、精密な制御、低い汚染レベル、そして連続運転のための信頼性が求められます。
総じて、真空ポンプは半導体製造に不可欠であり、さまざまなプロセスに必要な真空状態を作り出すことを可能にし、高品質の半導体デバイスの製造を保証します。

ドライ真空ポンプとウェット真空ポンプの違いは何ですか?
ドライ真空ポンプとウェット真空ポンプは、動作原理と用途が異なる2つの異なるタイプのポンプです。それぞれの違いについて詳しく説明します。
ドライ真空ポンプ:
ドライ真空ポンプは、ポンプ室内に潤滑液やシール水を使用せずに動作します。非接触機構によって真空状態を作り出します。一般的なドライ真空ポンプの種類には、以下のものがあります。
1. ロータリーベーンポンプ:ロータリーベーンポンプは、ローターと、ローターのスロットにスライドするベーンで構成されています。ローターの回転により、膨張と収縮を繰り返すチャンバーが形成され、ガスがポンプに送り込まれます。ベーンとハウジングは密閉構造になっており、ガスがポンプに逆流するのを防ぎます。ロータリーベーンポンプは、中程度の真空レベルが求められる研究室、医療用途、産業プロセスなどで広く使用されています。
2. ドライスクリューポンプ:ドライスクリューポンプは、2本以上の互いに噛み合ったスクリューを用いてガスを圧縮・輸送します。スクリューが回転すると、ガスはスクリュー間に閉じ込められ、吸入側から吐出側へと輸送されます。ドライスクリューポンプは、高い排気速度、低騒音、そして様々なガスに対応できることで知られています。半導体製造、化学処理、真空蒸留などの用途に使用されています。
3. クローポンプ:クローポンプは、爪状のローブを持つ2つのローターを逆方向に回転させて使用します。回転によって複数の膨張室と収縮室が形成され、ガスの捕捉とポンプ輸送が可能になります。クローポンプは、オイルフリー動作、高いポンプ速度、そして乾燥ガスやクリーンガスの取り扱いに適していることで知られています。自動車製造、食品包装、環境技術などの用途で広く使用されています。
ウェット真空ポンプ:
ウェット真空ポンプ(液封ポンプとも呼ばれる)は、液体(通常は水)を用いてシールを形成し、真空を発生させることで動作します。液封はシール媒体と作動流体の両方の役割を果たします。ウェット真空ポンプは、より高い真空レベルが求められる用途や、腐食性ガスを扱う用途でよく使用されます。ウェット真空ポンプの主な特徴は以下のとおりです。
1. 液封ポンプ:液封ポンプは、円筒形のケーシング内で偏心回転する羽根車と羽根車を備えています。インペラが回転すると、遠心力によって液体がケーシングにリング状に接します。このリングがシールを形成し、インペラの回転に伴いガス室の容積が減少し、ガスが圧縮されて排出されます。液封ポンプは、湿性ガスや腐食性ガスの処理能力に優れていることで知られており、化学処理、石油精製、廃水処理などの用途に適しています。
2. ウォータージェットポンプ:ウォータージェットポンプは、高速の水流を利用して真空状態を作り出します。水流はガスを巻き込み、その混合液はベンチュリー部で分離されます。ベンチュリー部では水が再循環され、ガスが排出されます。ウォータージェットポンプは、実験室や中程度の真空レベルが求められる用途で広く使用されています。
ドライ真空ポンプとウェット真空ポンプの主な違いは、次のようにまとめられます。
1. 動作原理: ドライ真空ポンプはシール液を必要とせずに動作しますが、ウェット真空ポンプはシールおよび作動媒体として液体リングまたは水を使用します。
2. 潤滑: ドライ真空ポンプは可動部品間の接触がないため潤滑は必要ありませんが、ウェット真空ポンプではシールと潤滑のために液体が必要です。
3. 用途:ドライ真空ポンプは、中程度の真空レベルが必要で、オイルフリー運転が求められる用途に適しています。研究室、医療現場、様々な産業プロセスで広く使用されています。一方、ウェット真空ポンプは、より高い真空レベルが必要な場合や、腐食性ガスを取り扱う場合に使用されます。化学処理、石油精製、廃水処理など、様々な分野で利用されています。
真空ポンプの選択は、必要な真空レベル、ガス適合性、動作条件、アプリケーションの性質などの特定の要件によって決まることに注意することが重要です。
まとめると、ドライ真空ポンプとウェット真空ポンプの主な違いは、動作原理、潤滑要件、そして用途にあります。ドライ真空ポンプは潤滑油なしで動作しますが、ウェット真空ポンプはシールと潤滑のために液体リングまたは水を使用します。ドライ真空ポンプとウェット真空ポンプのどちらを選択するかは、アプリケーションの具体的なニーズと必要な真空レベルによって異なります。

真空ポンプとエアコンプレッサーの違いは何ですか?
真空ポンプとエアコンプレッサーはどちらも空気やガスを操作するための機械装置ですが、その目的は正反対です。それぞれの違いについて詳しく説明します。
1. 機能:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、密閉系内の圧力を除去または低下させ、真空または低圧環境を作り出すように設計されています。チャンバーから空気またはガスを排出し、吸引圧または負圧を作り出します。
– エアコンプレッサー:一方、エアコンプレッサーは空気またはガスの圧力を高めるために使用されます。周囲の空気またはガスを取り込み、圧縮することで、圧力を高め、空気またはガスの体積を圧縮します。
2. 圧力範囲:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、大気圧または絶対零度以下の圧力を発生させることができます。圧力範囲は通常、負圧まで拡張され、トルやパスカルなどの単位で表されます。
– エアコンプレッサー:一方、エアコンプレッサーは正圧範囲で動作します。大気圧よりも高い圧力を発生し、通常は平方インチあたりの重量ポンド数(psi)やbarなどの単位で測定されます。
3. 用途:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、真空または低圧環境の生成が必要な様々な用途に使用されます。真空蒸留、真空乾燥、真空包装、真空ろ過などのプロセスで使用されます。また、科学研究、半導体製造、医療用吸引装置など、多くの産業においても不可欠な存在です。
– エアコンプレッサー:エアコンプレッサーは、高圧の圧縮空気またはガスが必要な用途で使用されます。空気圧工具、製造プロセス、空調システム、発電、タイヤの空気注入などに使用されます。圧縮空気は汎用性が高く、様々な産業用途や商業用途で利用できます。
4. 設計とメカニズム:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、密閉系から空気またはガスを除去することで真空状態を作り出すように設計されています。所定の真空レベルを達成するために、容積移送式、エントラップメント式、運動量移動式などの機構が用いられます。真空ポンプの種類としては、ロータリーベーンポンプ、ダイヤフラムポンプ、拡散ポンプなどが挙げられます。
– エアコンプレッサー:エアコンプレッサーは、空気またはガスを圧縮し、圧力を高め、容積を減少させるように設計されています。往復ピストン、回転スクリュー、遠心力などの機構を利用して空気またはガスを圧縮します。一般的なエアコンプレッサーの種類には、往復圧縮機、回転スクリュー圧縮機、遠心圧縮機などがあります。
5. 空気/ガスの流れの方向:
– 真空ポンプ: 真空ポンプは空気またはガスをポンプ内に引き込み、それをシステムから排出することで、排気されるチャンバーまたはシステム内に真空を作り出します。
– エアコンプレッサー:エアコンプレッサーは周囲の空気またはガスを取り込み、それを圧縮して圧力を高め、タンクに貯蔵するか、目的の用途に直接送ります。
真空ポンプとエアコンプレッサーは機能が異なり、動作圧力範囲も異なりますが、どちらも様々な業界や用途において不可欠な存在です。真空ポンプは真空または低圧環境を作り出し、維持する一方、エアコンプレッサーは空気またはガスを様々な用途やプロセスに合わせて高圧に圧縮します。


編集者 CX 2023-10-31