中国サプライヤーCHINAMFG 6インチ自動ドライプライミング真空アシストセルフプライミング遠心ポンプ真空ポンプコネクタ

製品説明

1. 簡単な紹介 

Sundream SD シリーズは、自動ドライプライミング、真空アシスト、ドライ運転、ヘビーデューティー固形物処理用セルフプライミング遠心ポンプです。  
ディーゼルエンジン駆動、移動作業用にトレーラー搭載。

2. 技術的特徴:
吸引揚程:9.5M。
真空ポンプ:スライディングベーン真空ポンプ 50CFM
真空プライミングシステム: 蒸気および水分離器、クーラー、真空ポンプオイルタンクを備えたオイルリング型真空ポンプを含む。
始動:空運転、液体を供給せずに自動的に起動します。 

直径サイズ:DN150-DN500(6インチ-20インチ) 
回転数: 1500rpm-1800rpm 
容量:最大3500m3/H 
ヘッド:最大32M  

技術データシート: 
 

シリアル番号 モデル  入口/出口
直径
(ミリメートル)
最大流量/ 
質問
(立方メートル/時)
マックスヘッド/
H
(メートル)
ディーゼルエンジン出力

(キロワット)
 
ディーゼルエンジンブランド
速度 RPM
1 SD150  150 370 25 40 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド   1500
2 SD200  200 650 23 40 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド   1500
3 SD250  250 850 23 60 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド     1500
4 SD300 300 1100 24 60 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド      1500
5 SD350  350 1600 23 95 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド    1500
6 SD400 400 2200 26 120 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド      1500
7 SD500 500 2000-2600 15-10 138 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド     650
8 SD500 500 2000-2500 10-6 120 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド     750
9 SD500 500 2500-3200 20-15 235 濰柴、玉柴、北内などの有名ブランド    750

 

3. 用途: 
ウェルポイントシステム、鉱業、建設、工業、廃水、発電、環境、脱水などに。

4. パフォーマンス曲線 

5. 寸法図 

6. 当社の強み 

6.1 高い自己プライミング性能: 

最大9.5mの吸引ヘッド
同期ドライプライミング
通常の自吸式ポンプよりも吸引力が優れています

6.2. クイックスタートと再起動: 
初回起動前に水を与える必要はありません。 
現場作業の削減

6.3. 効率 80% は、ランニングコストを節約し、ポンプ寿命全体にわたってエネルギー効率に優れています。 

6.4. CHINAMFG粒子を85mmまで通過させる, さまざまな作業条件下での賢明な選択。 
この SD シリーズ ポンプは、大口径の CHINAMFG 粒子を通過させるため、深所に適しています。 

6.5. フランジ規格:GB、HG、DIN、ANSI規格(お客様のご要望に応じます)。 

6.6. さまざまな素材から選択可能
鋳鉄/ステンレス鋼/鋼/ダクタイル鋳鉄/二相ステンレス鋼
軸シール:メカニカルシール 

6.7. 設置場所を節約、低騒音、メンテナンスが容易
コンパクトな構造のSDシリーズは、高効率・省エネの自吸式遠心ポンプです。ポンプケーシングと吸引装置がコンパクトで設置場所を選びません。ポンプは安定した運転と低騒音を実現。ポンプは高同心度部品で組み立てられています。  

 

アフターサービス: 12ヶ月
保証: 12ヶ月
最大ヘッド: 32分
最大容量: 360m3/時
運転タイプ: ディーゼルエンジンと電気モーター
インペラ番号: 単段ポンプ
カスタマイズ:
利用可能

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vacuum pump

真空レベルとは何ですか? 真空ポンプではどのように測定されますか?

真空度とは、真空システムにおける大気圧より低い圧力の度合いを指します。これは、システム内の「空」、つまり気体分子が存在しない状態を示します。真空ポンプにおける真空度測定の詳細な説明は以下のとおりです。

真空度は通常、真空システム内の圧力と大気圧の差を表す圧力単位を用いて測定されます。真空度の測定に最も一般的に使用される単位は、SI単位系であるパスカル(Pa)です。その他、Torr、ミリバール(mbar)、水銀柱インチ(inHg)などの単位もよく使用されます。

真空ポンプには、真空システム内の圧力を測定する圧力センサーまたはゲージが装備されています。これらのゲージは、真空アプリケーションで発生する低圧を測定するために特別に設計されています。真空レベルの測定に使用される圧力ゲージには、いくつかの種類があります。

1. ピラニ真空計:ピラニ真空計は気体の熱伝導率を利用して動作します。真空環境にさらされた加熱素子で構成されています。気体分子が加熱素子に衝突すると、熱が奪われ、温度変化が生じます。この温度変化を測定することで圧力を推定し、真空度を決定することができます。

2. 熱電対ゲージ:熱電対ゲージはピラニゲージと同様に、気体の熱伝導率を利用します。2本の異なる金属線を接合して熱電対を形成し、ガス分子が熱電対に衝突すると、線間に温度差が生じ、電圧が発生します。この電圧は圧力に比例し、校正することで真空度を読み取ることができます。

3. 静電容量式マノメータ:静電容量式マノメータは、柔軟なダイヤフラムの変位によって生じる2つの電極間の静電容量の変化を検出することで圧力を測定します。真空システム内の圧力が変化すると、ダイヤフラムが移動し、静電容量を変化させることで真空度を測定します。

4. 電離計:電離計は、真空システム内のガス分子を電離させ、その結果生じる電流を測定することで動作します。イオン電流は圧力に比例するため、真空度を測定することができます。電離計には、熱陰極計、冷陰極計、ベヤード・アルパート計など、様々な種類があります。

5. バラトロンゲージ:バラトロンゲージは静電容量式マノメトリーの原理を利用していますが、設計が異なります。圧力感知ダイアフラムと参照電極との間にわずかな隙間を設けて構成されています。真空システムと参照電極間の圧力差によってダイアフラムが変位し、静電容量が変化して真空レベルを測定します。

真空ポンプの種類によって圧力範囲が異なる場合があり、動作条件に適した特定の圧力計が必要になる場合があることに注意することが重要です。さらに、真空ポンプには、ポンププロセスのさまざまな段階やシステムのさまざまな部分における圧力に関する情報を提供するために、複数の圧力計が装備されていることがよくあります。

要約すると、真空レベルとは、真空システムにおける大気圧より低い圧力を指します。これは、低圧環境向けに特別に設計された圧力計を用いて測定されます。真空ポンプで使用される一般的な圧力計には、ピラニゲージ、熱電対ゲージ、静電容量式マノメータ、イオン化ゲージ、バラトロンゲージなどがあります。

\vacuum pump

真空ポンプは漏れ検出に使用できますか?

はい、真空ポンプは漏れ検出に使用できます。詳しい説明は以下のとおりです。

リーク検出は、製造業、自動車産業、航空宇宙産業、HVAC(暖房・換気・空調)など、様々な業界において重要な作業です。システムやコンポーネントにおける、液体、ガス、または圧力の損失につながる可能性のある漏れを特定し、その位置を特定する必要があります。真空ポンプは、低圧環境を作り出し、様々な方法で漏れの検出を容易にすることで、リーク検出プロセスにおいて重要な役割を果たします。

真空ポンプを漏れ検出に使用する方法をいくつか紹介します。

1. 真空減衰法:真空減衰法は、リーク検出によく用いられる手法です。真空ポンプを用いて密閉されたシステムまたはコンポーネント内に真空状態を作り出し、圧力の変化を経時的にモニタリングします。漏れがある場合、空気またはガスの侵入により圧力は徐々に上昇します。圧力上昇率を測定することで、漏れの位置と大きさを推定できます。真空ポンプは、システムを真空にし、テストに必要な初期真空状態を確立するために使用されます。

2. バブルテスト:バブルテストは、漏れを検出する簡便かつ視覚的な方法です。この方法では、検査対象の部品またはシステムをガスで加圧し、その後、液体(通常は石鹸水)に浸します。漏れがある場合、部品から漏れたガスが液体中に泡を形成し、漏れの存在と位置を示します。真空ポンプを使用することで、圧力差を作り出し、漏れ箇所からガスを排出することで、泡の検出を容易にすることができます。

3. ヘリウムリーク検出:ヘリウムリーク検出は、極めて小さな漏れ箇所を特定するための高感度な方法です。ヘリウムは原子サイズが小さいため、小さな開口部や漏れ箇所を容易に貫通します。この方法では、システムまたはコンポーネントをヘリウムガスで加圧し、真空ポンプを使用して周囲を真空状態にします。次に、ヘリウムリーク検出器を使用して、漏れ箇所をヘリウムの存在の有無を嗅ぎ分けたりスキャンしたりすることで、漏れ箇所を特定します。真空ポンプは、この方法に必要な低圧環境を作り出し、正確な検出を行うために不可欠です。

4. 圧力変化試験:真空ポンプは、リーク検出のための圧力変化試験にも使用できます。この方法では、システムまたはコンポーネントに加圧した後、圧力源から分離します。圧力を経時的に監視し、大幅な圧力低下があればリークの存在を示します。加圧後にシステムを真空にし、大気圧に戻して比較したり再試験したりするために、真空ポンプを使用できます。

5. 質量分析計によるリーク検出:質量分析計によるリーク検出は、リークを特定し定量化する高感度かつ高精度な手法です。この手法では、検査対象のシステムまたはコンポーネントにトレーサーガス(通常はヘリウム)を導入します。真空ポンプを用いて周囲を真空にし、質量分析計を用いてガスサンプル中のトレーサーガスの存在を分析します。この手法により、極めて微量のリークまで正確に検出・定量化できます。真空ポンプは、必要な真空状態を作り出し、信頼性の高い結果を得るために不可欠です。

まとめると、真空ポンプはリーク検出に効果的に活用できます。真空ポンプは、真空減衰、気泡試験、ヘリウムリーク検出、圧力変化試験、質量分析計リーク検出など、様々なリーク検出方法を可能にします。真空ポンプは必要な低圧環境を作り出し、検査対象のシステムまたはコンポーネントの真空引きを補助し、正確で信頼性の高いリーク検出を可能にします。真空ポンプの選択は、リーク検出方法の具体的な要件と、アプリケーションに必要な感度によって異なります。

vacuum pump

さまざまな種類の真空ポンプが利用可能ですか?

はい、様々な種類の真空ポンプがあり、それぞれ特定の用途や動作原理に合わせて設計されています。詳しい説明は以下のとおりです。

真空ポンプは、動作原理、メカニズム、そして生成できる真空の種類に基づいて分類されます。一般的な真空ポンプの種類には、以下のものがあります。

1. ロータリーベーン真空ポンプ:

– 説明:ロータリーベーンポンプは、回転するベーンを用いて真空状態を作り出す容積型ポンプです。ベーンはポンプローターのスロットに出し入れされ、ガスを捕捉・圧縮することで吸引力を生み出し、真空状態を作り出します。

– 用途: ロータリーベーン真空ポンプは、実験室の真空システム、包装、冷蔵、空調など、中程度の真空レベルを必要とする用途で広く使用されています。

2. ダイヤフラム真空ポンプ:

– 説明:ダイヤフラムポンプは、上下に動く柔軟なダイヤフラムを使用して真空状態を作り出します。ダイヤフラムは真空チャンバーと駆動機構を分離し、コンタミネーションを防ぎ、オイルフリーで動作させます。

– 用途: ダイヤフラム真空ポンプは、実験室、医療機器、分析機器、オイルフリーまたは耐薬品性の真空が必要な用途で一般的に使用されます。

3. スクロール真空ポンプ:

– 説明:スクロールポンプは、固定スクロールと旋回スクロールの2つの螺旋状のスクロールを備えており、三日月形の可動ガスポケットを連続的に形成します。スクロールが移動すると、ガスが継続的に閉じ込められ、圧縮され、真空状態になります。

– 用途: スクロール真空ポンプは、分析機器、真空乾燥、真空コーティングなど、クリーンで乾燥した真空を必要とする用途に適しています。

4. ピストン真空ポンプ:

– 説明:ピストンポンプは、往復運動するピストンを用いてガスを圧縮し、バルブを通して放出することで真空状態を作り出します。高い真空レベルを実現できますが、潤滑が必要になる場合があります。

– 用途: ピストン真空ポンプは、真空炉、凍結乾燥、半導体製造など、高真空レベルが求められる用途で使用されます。

5. ターボ分子真空ポンプ:

– 説明:ターボポンプは、高速回転するブレードまたはインペラを用いて分子流を作り出し、ガス分子をシステムから連続的に排出します。通常、動作には補助ポンプが必要です。

– 用途: ターボ分子ポンプは、半導体製造、研究室、質量分析などの高真空アプリケーションで使用されます。

6. 拡散真空ポンプ:

– 説明:拡散ポンプは、ガス分子の拡散と、それに続く高速蒸気ジェットによる除去を利用します。高真空レベルで動作し、補助ポンプが必要です。

– 用途: 拡散ポンプは、真空冶金、宇宙シミュレーションチャンバー、粒子加速器など、高真空レベルを必要とするアプリケーションで一般的に使用されます。

7. 極低温真空ポンプ:

– 説明:極低温ポンプは、極低温を利用してガス分子を凝縮・捕捉し、真空状態を作り出すポンプです。動作には液体窒素やヘリウムなどの極低温流体を使用します。

– 用途: 極低温真空ポンプは、素粒子物理学研究、材料科学、核融合炉などの超高真空アプリケーションで使用されます。

これらは、利用可能な様々なタイプの真空ポンプのほんの一例です。各タイプには、それぞれ利点、制限、そして特定の用途への適合性があります。真空ポンプの選択は、必要な真空レベル、ガス適合性、信頼性、コスト、そしてアプリケーションの具体的なニーズといった要素によって異なります。

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編集者:CX 2023-12-14