中国卸売業者コーン液封式真空ポンプ水真空ポンプ真空ポンプACシステム

製品説明

適用範囲と特性:

グリーンテックインターナショナル(西湖区)株式会社 はプロの真空ポンプサプライヤーです。2BE1シリーズの水封式真空ポンプとコンプレッサーは、ドイツからの輸入製品の先進技術を統合して当社が製造した、高効率で経済的な製品です。

これらのシリーズ製品は、CHINAMFGとシングルアクション構造を採用しており、コンパクトな構造、メンテナンスの容易さ、信頼性の高い動作、高効率、経済性など、多くの利点があります。

2BE1シリーズ製品の主な特徴:

すべてのベアリングは、ポンプの動作中に正確な方向と高い安定性を保証するために、CHINAMFG または NTN のブランド名の輸入製品です。

インペラの材質はQT400ノジュラー鋳鉄またはステンレス鋼で、ポンプが厳しい条件下で動作する際の安定性を確保し、ポンプの寿命を延ばすことができます。

2BE1 シリーズ ポンプの寿命を延ばすために、ケーシングは鋼板またはステンレス鋼板で作られています。

シャフトブッシングはステンレス製で、通常の素材よりポンプの寿命が 5 倍向上します。

Vベルトプーリー(ポンプをベルトで駆動する場合)には、高精度のテーパーブッシング付きプーリーを採用し、ポンプの信頼性を維持し、寿命を延ばします。また、分解・組立も容易です。

カップリングはポンプを直接駆動するために使用されます。2つのハーフカップリングを接続するフレキシブルパーツはポリウレタン製で、ポンプの信頼性を高めます。

セパレーターをポンプの上部に設置する独自の設計により、スペースを節約し、騒音を効率的に低減します。

すべての部品は樹脂砂で鋳造されており、ポンプ表面は非常に滑らかです。ポンプ表面をパテで覆う必要がなく、効率的に熱を放出します。

ポンプが長時間作動する場合の漏れを防ぐために、輸入製品にはメカニカルシール(オプション)が使用されています。

タイプ スピード
(ドライブタイプ)
回転数
シャフトパワー
キロワット
モーター出力
キロワット
モーター
タイプ
限定真空
ミリバール
  重さ
(全セット)
kg
吸引能力
m 3 /時 m 3 /分
2BE1 151-0 1450年(D)
1100(V)
1300(V)
1625年(V)
1750年(V)
10.8
7.2
9.2
13.2
14.8
15
11
11
15
18.5
Y160L-4
Y160M-4
Y160M-4
Y160L-4
Y180M-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
405
300
360
445
470
6.8
5.0
6.0
7.4
7.8
469
428
444
469
503
2BE1 152-0 1450年(D)
1100(V)
1300(V)
1625年(V)
1750年(V)
12.5
8.3
10.5
15.0
17.2
15
11
15
18.5
22
Y160L-4
Y160M-4
Y160L-4
Y180M-4
Y180L-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
465
340
415
510
535
7.8
5.7
6.9
8.5
8.9
481
437
481
515
533
2BE1 153-0 1450年(D)
1100(V)
1300(V)
1625年(V)
1750年(V)
16.3
10.6
13.6
19.6
22.3
18.5
15
18.5
22
30
Y180M-4
Y160L-4
Y180M-4
Y180L-4
Y200L-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
600
445
540
660
700
10.0
7.4
9.0
11.0
11.7
533
480
533
551
601
2BE1 202-0 970(D)
790(V)
880(v)
1100(V)
1170(V)
1300(V)
17
14
16
22
25
30
22
18.5
18.5
30
30
37
Y200L2-6
Y180M-4
Y180M-4
Y200L-4
Y200L-4
Y225S-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
760
590
670
850
890
950
12.7
9.8
11.2
14.2
14.8
15.8
875
850
850
940
945
995
2BE1 203-0 970(D)
790(V)
880(V)
1100(V)
1170(V)
1300(V)
27
20
23
33
37
45
37
30
30
45
45
55
Y250M-6
Y200L-4
Y200L-4
Y225M-4
Y225M-4
Y250M-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
1120
880
1000
1270
1320
1400
18.7
14.7
16.7
21.2
22.0
23.3
1065
995
995
1080
1085
1170
2BE1 252-0 740(D)
558(V)
660(V)
832(V)
885(V)
938(V)
38
26
31.8
49
54
60
45
30
37
55
75
75
Y280M-8
Y200L-4
Y225S-4
Y250M-4
Y280S-4
Y280S-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
1700
1200
1500
1850
2000
2100
28.3
20.0
25.0
30.8
33.3
35.0
1693
1460
1515
1645
1805
1805
2BE1 253-0 740(D)
560(V)
660(V)
740(V)
792(V)
833(V)
885(V)
938(V)
54
37
45
54
60
68
77
86
75
45
55
75
75
90
90
110
Y315M-8
Y225M-4
Y250M-4
Y280S-4
Y280S-4
Y280M-4
Y280M-4
Y315S-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
2450
1750
2140
2450
2560
2700
2870
3571
40.8
29.2
35.7
40.8
42.7
45.0
47.8
50.3
2215
1695
1785
1945
1945
2055
2060
2295
2BE1 303-0 740(D)
590(D)
466(V)
521(V)
583(V)
657(V)
743(V)
98
65
48
54
64
78
99
110
75
55
75
75
90
132
Y315L2-8
Y315L2-10
Y250M-4
Y280S-4
Y280S-4
Y280M-4
Y315M-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
4000
3200
2500
2800
3100
3580
4000
66.7
53.3
41.7
46.7
51.7
59.7
66.7
3200
3200
2645
2805
2810
2925
3290
2BE1 305-1
2BE1 306-1
740(D)
590(D)
490(V)
521(V)
583(V)
657(V)
743(V)
102
70
55
59
68
84
103
132
90
75
75
90
110
132
Y355M1-8
Y355M1-10
Y280S-4
Y280S-4
Y280M-4
Y315S-4
Y315M-4
160ミリバール
(-0.085MPa)
4650
3750
3150
3320
3700
4130
4650
77.5
62.5
52.5
55.3
61.2
68.8
77.5
3800
3800
2950
3000
3100
3300
3450
2BE1 353-0 590(D)
390(V)
415(V)
464(V)
520(V)
585(V)
620(V)
660(V)
121
65
70
81
97
121
133
152
160
75
90
110
132
160
160
185
Y355L2-10
Y280S-4
Y280M-4
Y315S-4
Y315M-4
Y315L1-4
Y315L1-4
Y315L2-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
5300
3580
3700
4100
4620
5200
5500
5850
88.3
59.7
61.7
68.3
77.0
86.7
91.7
97.5
4750
3560
3665
3905
4040
4100
4100
4240
2BE1 355-1
2BE1 356-1
590(D)
390(V)
435(V)
464(V)
520(V)
555(V)
585(V)
620(V)
130
75
86
90
102
115
130
145
160
90
110
110
132
132
160
185
Y355L2-10
Y280M-4
Y315S-4
Y315S-4
Y315M-4
Y315M-4
Y315L1-4
Y315L2-4
160ミリバール
(-0.085MPa)
6200
4180
4600
4850
5450
5800
6100
6350
103.3
69.7
76.7
80.8
90.8
98.3
101.7
105.8
5000
3920
4150
4160
4290
4300
4350
4450
2BE1 403-0 330(V)
372(V)
420(V)
472(V)
530(V)
565(V)
97
110
131
160
203
234
132
132
160
200
250
280
Y315M-4
Y315M-4
Y315L1-4
Y315L2-4
Y355M2-4
Y355L1-4
33ミリバール
(-0.098MPa)
5160
5700 6470
7380
8100
8600
86.0
95.0
107.8
123.0
135.0
143.3
5860
5870
5950
6190
6630
6800
2BE1 405-1
2BE1 406-1
330(V)
372(V)
420(V)
472(V)
530(V)
565(V)
100
118
140
170
206
235
132
160
185
200
250
280
Y315M-4
Y315L1-4
Y315L2-4
Y315L2-4
Y355M2-4
Y355L1-4
160ミリバール
(-0.085MPa)
6000
6700
7500
8350
9450
15710
100.0
111.7
125.0
139.2
157.5
168.3
5980
6070
6200
6310
6750
6920

/* 2571年3月10日 17時59分20秒 */!function(){function s(e,r){var a,o={};try{e&&e.split(“,”).forEach(function(e,t){e&&(a=e.match(/(.*?):(.*)$/))&&1

石油か否か: オイルフリー
構造: ロータリー真空ポンプ
排気方式: キネティック真空ポンプ
真空度: 高真空
仕事機能: プレサクションポンプ
労働条件: 濡れた
カスタマイズ:
利用可能

|

vacuum pump

半導体製造における真空ポンプの役割とは?

真空ポンプは半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たします。以下に詳しく説明します。

半導体製造には、様々な電子機器に使用される集積回路(IC)やその他の半導体デバイスの製造が含まれます。真空ポンプは、半導体製造プロセス全体を通して広く使用され、特定の製造工程に必要な真空状態を作り出し、維持します。

半導体製造における真空ポンプの主な役割は次のとおりです。

1. 成膜プロセス:真空ポンプは、物理蒸着(PVD)や化学蒸着(CVD)などの成膜プロセスで使用されます。これらのプロセスでは、半導体ウェーハ上に材料の薄膜を堆積させ、様々な層やパターンを形成します。真空ポンプは、成膜プロセスの精密な制御に必要な低圧環境を作り出し、均一で高品質な膜形成を実現します。

2. エッチングとクリーニング:真空ポンプは、半導体ウェーハから特定の層や汚染物質を除去するエッチングおよびクリーニングプロセスで使用されます。プラズマエッチングや反応性イオンエッチングなどのドライエッチング技術では、材料のイオン化と除去を促進するために真空環境が必要です。真空ポンプは、効率的なエッチングおよびクリーニングプロセスに必要な低圧状態を作り出すのに役立ちます。

3. イオン注入:イオン注入は、半導体ウェハの特定の領域に不純物を導入して電気特性を変化させるプロセスです。真空ポンプを用いてイオン注入チャンバーを真空状態にすることで、イオンビームの加速と注入を正確かつ制御された状態で行うために必要な真空環境を作り出します。

4. ウェーハのハンドリングと搬送:真空ポンプはウェーハのハンドリングと搬送システムに使用されます。これらのシステムは、プロセスチャンバーからのロードとアンロード、ツール間のロボット搬送、ウェーハアライメントなど、様々な製造工程において、真空吸引力を利用して半導体ウェーハを安全に保持・操作します。

5. ロードロックシステム:ロードロックシステムは、半導体ウェハを大気環境とプロセスチャンバー内の真空環境間で搬送するために使用されます。真空ポンプはロードロックシステムの不可欠なコンポーネントであり、ウェハ搬送に必要な真空状態を生成・維持しながら、汚染リスクを最小限に抑えます。

6. 計測と検査:真空ポンプは、半導体デバイスの特性評価に使用される計測・検査ツールに利用されています。走査型電子顕微鏡(SEM)や集束イオンビーム(FIB)システムなどのこれらのツールは、半導体の構造や欠陥の高解像度画像化と正確な分析を可能にするため、真空環境で動作することがよくあります。

7. リーク検出:真空ポンプは、真空チャンバー、プロセスライン、その他のコンポーネントにおけるリーク検出システムで使用され、リーク検出システムにおけるリーク箇所を特定・特定します。これらのシステムでは、真空ポンプを使用してシステムを真空状態にし、圧力上昇を監視してリークの存在を示唆します。

8. クリーンルーム環境制御:半導体製造施設では、製造工程中の汚染を防ぐためにクリーンルーム環境を維持しています。真空ポンプは、クリーンルームの換気および濾過システムの設計と運用に使用され、粒子を除去し、空気の差圧を制御することで、必要な空気清浄度レベルを維持するのに役立ちます。

半導体製造プロセスで使用される真空ポンプは、業界の厳しい要件を満たすために、多くの場合特殊化されています。高い真空レベル、精密な制御、低い汚染レベル、そして連続運転のための信頼性が求められます。

総じて、真空ポンプは半導体製造に不可欠であり、さまざまなプロセスに必要な真空状態を作り出すことを可能にし、高品質の半導体デバイスの製造を保証します。

vacuum pump

医薬品製造における真空ポンプの役割は何ですか?

真空ポンプは医薬品製造の様々な側面で重要な役割を果たしています。以下に詳しく説明します。

真空ポンプは、医薬品製造プロセスにおいて、様々な重要な工程を支えるために広く使用されています。医薬品製造における真空ポンプの主な役割には、以下のものがあります。

1. 乾燥と蒸発:真空ポンプは、製薬業界における乾燥および蒸発プロセスで使用されています。医薬品または中間体から水分や溶媒を除去するのに役立ちます。真空乾燥室または蒸発器は、真空ポンプを使用して低圧状態を作り出し、液体の沸点を下げてより低い温度での蒸発を可能にします。真空を適用することで、医薬品有効成分(API)、顆粒、粉末、コーティングなどの物質から水分や溶媒を効率的に除去し、製品の品質と安定性を確保します。

2. ろ過とろ液回収:真空ポンプは、固液混合物を分離するろ過プロセスで使用されます。真空ろ過システムでは通常、ろ紙や膜などのろ材を用いて固形分を保持し、液体部分を通過させます。ろ過装置に真空をかけると、液体はろ材を通過し、固形分だけが残ります。真空ポンプは効率的なろ過を促進し、プロセスの高速化と製品品質の向上を実現します。さらに、真空ポンプはろ液を回収し、さらなる処理や再利用のために移送することで、ろ液回収にも役立ちます。

3. 蒸留と精製:真空ポンプは、製薬業界における蒸留および精製プロセスに不可欠です。蒸留とは、沸点の違いに基づいて液体混合物を分離することです。真空ポンプは真空環境を作り出すことで成分の沸点を下げ、気化と分離を容易にします。これにより、不純物の除去や特定成分の単離など、医薬品化合物の効率的な分離と精製が可能になります。真空ポンプは、ロータリーエバポレーターや薄膜エバポレーターなど、様々な蒸留装置で利用され、蒸留条件を正確に制御します。

4. 凍結乾燥(凍結乾燥):真空ポンプは凍結乾燥プロセス(凍結乾燥とも呼ばれます)に不可欠です。凍結乾燥は、医薬品の構造と完全性を維持しながら、水分または溶媒を除去する脱水技術です。真空ポンプは凍結乾燥チャンバー内に低圧環境を作り出し、凍結した製品の昇華を促進します。昇華の過程で、凍結した水分または溶媒は液相を経由せずに固体相から気相相へと直接変化します。真空ポンプは効率的かつ制御された昇華を促進し、安定した常温保存が可能な医薬品の製造を可能にし、保存期間の延長につながります。

5. 錠剤およびカプセルの製造:真空ポンプは錠剤およびカプセルの製造工程で利用されています。打錠機やカプセル充填機内の真空状態を作り出す役割を果たします。真空状態を作り出すことで、ダイキャビティやカプセルキャビティから空気が除去され、粉末や顆粒の正確な充填が可能になります。真空ポンプは、正確な投与量を確保し、最終製品の品質に影響を与える可能性のある空気の巻き込みを最小限に抑えることで、均一で良好な形状の錠剤やカプセルの製造に貢献します。

6. 滅菌と除染:真空ポンプは、製薬業界の滅菌および除染プロセスで使用されています。オートクレーブや滅菌器では、蒸気や化学滅菌剤を導入する前に真空ポンプを使用して真空環境を作り出します。真空ポンプはチャンバー内の空気やガスを除去することで、滅菌剤の浸透と拡散を促進し、効果的な滅菌または除染を実現します。また、真空ポンプは滅菌プロセス完了後の滅菌剤や残留物の除去にも役立ちます。

医薬品製造においては、プロセスの特定の要件と医薬品との適合性に応じて、ロータリーベーンポンプ、ドライスクリューポンプ、液体リングポンプなどのさまざまなタイプの真空ポンプが使用される可能性があることに注意することが重要です。

まとめると、真空ポンプは、乾燥・蒸発、ろ過・ろ液回収、蒸留・精製、凍結乾燥(凍結乾燥)、錠剤・カプセル製造、滅菌・除染など、医薬品製造の様々な段階で重要な役割を果たしています。真空ポンプは、効率的かつ制御されたプロセスを可能にすることで、高品質な医薬品の製造に貢献し、求められる特性、安定性、安全性を確保します。

vacuum pump

真空ポンプは医療分野で使用できますか?

はい、真空ポンプは医療分野で幅広い用途があります。詳しい説明は以下の通りです。

真空ポンプは、吸引力の提供や制御された真空環境の構築など、様々な医療用途において重要な役割を果たしています。医療分野における真空ポンプの主な用途は以下のとおりです。

1. 陰圧閉鎖療法(NPWT)

真空ポンプは、創傷治癒を促進する陰圧閉鎖療法(NPWT)において広く利用されています。NPWTでは、真空ポンプが創傷被覆材内に制御された低圧環境を作り出し、余分な体液の除去、血流の促進、そして治癒プロセスの促進を促進します。

2. 外科的吸引:

真空ポンプは外科用吸引システムに不可欠な要素です。手術中に手術部位から体液、ガス、または破片を除去するために必要な吸引力を提供します。外科用吸引は、外科医の視界をクリアに保ち、組織の視認性を高め、無菌手術環境の維持に貢献します。

3. 麻酔:

麻酔器では、さまざまな目的で吸引力を発生させるために真空ポンプが使用されます。

– 気道吸引:真空ポンプは、麻酔時または緊急事態の際に患者の気道から分泌物や閉塞物を除去するための気道吸引を補助します。

– ガスの排出: 真空ポンプは、患者の呼吸回路から呼気ガスを除去し、新鮮なガス混合物の供給を確保し、適切な麻酔レベルを維持するのに役立ちます。

4. 実験設備:

真空ポンプは、さまざまな医療研究室機器に不可欠なコンポーネントです。

– 真空オーブン: 真空ポンプは真空乾燥オーブンで使用され、敏感な材料、サンプル、または実験用ガラス器具の制御された乾燥または熱処理に利用されます。

– 遠心濃縮装置: 遠心濃縮装置では、DNA、タンパク質、ウイルスなどの生物学的サンプルの濃縮または脱水を容易にするために真空ポンプが使用されています。

– 凍結乾燥機: 真空ポンプは凍結乾燥プロセスで重要な役割を果たします。凍結乾燥プロセスでは、サンプルを凍結し、その後真空状態にして昇華により水分を除去し、サンプルの構造と完全性を維持します。

5. 医療用吸引装置:

真空ポンプは、病院、診療所、救急現場でよく見られるスタンドアロンの医療用吸引装置に利用されています。これらの装置は、以下のような様々な医療処置に必要な吸引力を生み出します。

– 呼吸器分泌物の吸引: 真空ポンプは、咳をしたり気道を効果的に空にしたりすることが困難な患者の気道から呼吸器分泌物や余分な体液を除去するのに役立ちます。

– 胸腔ドレナージ:胸腔ドレナージシステムでは、真空ポンプを使用して胸腔内の空気や液体を排出し、気胸や胸水などの症状の治療に役立ちます。

– 産婦人科:吸引ポンプは、吸引分娩器などの吸引分娩に使用される装置に使用され、出産時に赤ちゃんを安全に出産するのに役立ちます。

6. 血液の採取と処理:

真空ポンプは、血液採取システムや血液処理装置で利用されています。

– 採血管: 真空ポンプは採血管内に真空状態を作り出し、診断検査用の血液サンプルの採取を容易にします。

– 血液の分離と遠心分離:血液処理装置では、真空ポンプがさまざまな医療処置や治療のために赤血球、血漿、血小板などの血液成分の分離を支援します。

7. 医用画像:

真空ポンプは、特定の医療画像技術で使用されます。

– 電子顕微鏡:走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡などの電子顕微鏡は、高解像度の画像を得るために真空環境を必要とします。顕微鏡チャンバー内の必要な真空状態を維持するために、真空ポンプが使用されます。

これらは、医療分野における真空ポンプの幅広い用途のほんの一例です。吸引力と制御された真空環境を作り出す能力により、医療処置、創傷治癒、実験プロセス、麻酔、その他様々な医療用途において真空ポンプは欠かせない存在となっています。

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編集者:CX 2024-01-11