产品描述
应用范围及特点:
绿泰国际(西湖区)有限公司 是专业的真空泵供应商。2BE1系列水环真空泵和压缩机是高效节能的产品,由我公司融合德国进口产品的先进技术制造而成。
该系列产品采用中国制造的单动式结构,具有结构紧凑、维护方便、运行可靠、效率高、经济省电等诸多优点。
2BE1系列产品的主要特点:
所有轴承均为中国制造或NTN品牌的进口产品,以确保泵在工作过程中的精确定位和高稳定性。
叶轮材质为QT400球墨铸铁或不锈钢,以确保水泵在严苛条件下工作的稳定性,并可延长水泵的使用寿命。
2BE1系列泵的泵壳采用钢或不锈钢板制成,以延长其使用寿命。
轴套采用不锈钢制成,使泵的使用寿命比普通材料提高 5 倍。
V型皮带轮(当泵由皮带驱动时)采用高精度锥形衬套皮带轮,以保证泵的可靠性并延长其使用寿命。此外,它也易于安装和拆卸。
该联轴器用于直接驱动泵。连接两个半联轴器的柔性部分采用聚氨酯材料制成,提高了泵的可靠性。
将分离器设置在泵上方的独特设计节省了空间并有效降低了噪音。
所有部件均采用树脂砂浇铸而成,使泵表面非常光滑。无需用腻子覆盖泵表面,且散热效率高。
机械密封件(可选)采用进口产品,以避免泵长时间工作时发生泄漏。
| 类型 | 速度 (驱动类型) 转/分钟 |
轴功率 千瓦 |
电机功率 千瓦 |
发动机 类型 |
有限真空 毫巴 |
重量 (全套) 公斤 |
||
| 吸力 | ||||||||
| 立方米/小时 | 立方米/分钟 | |||||||
| 2BE1 151-0 | 1450(D) 1100(V) 1300(V) 1625(V) 1750(V) |
10.8 7.2 9.2 13.2 14.8 |
15 11 11 15 18.5 |
Y160L-4 Y160M-4 Y160M-4 Y160L-4 Y180M-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
405 300 360 445 470 |
6.8 5.0 6.0 7.4 7.8 |
469 428 444 469 503 |
| 2BE1 152-0 | 1450(D) 1100(V) 1300(V) 1625(V) 1750(V) |
12.5 8.3 10.5 15.0 17.2 |
15 11 15 18.5 22 |
Y160L-4 Y160M-4 Y160L-4 Y180M-4 Y180L-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
465 340 415 510 535 |
7.8 5.7 6.9 8.5 8.9 |
481 437 481 515 533 |
| 2BE1 153-0 | 1450(D) 1100(V) 1300(V) 1625(V) 1750(V) |
16.3 10.6 13.6 19.6 22.3 |
18.5 15 18.5 22 30 |
Y180M-4 Y160L-4 Y180M-4 Y180L-4 Y200L-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
600 445 540 660 700 |
10.0 7.4 9.0 11.0 11.7 |
533 480 533 551 601 |
| 2BE1 202-0 | 970(D) 790(V) 880(v) 1100(V) 1170(V) 1300(V) |
17 14 16 22 25 30 |
22 18.5 18.5 30 30 37 |
Y200L2-6 Y180M-4 Y180M-4 Y200L-4 Y200L-4 Y225S-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
760 590 670 850 890 950 |
12.7 9.8 11.2 14.2 14.8 15.8 |
875 850 850 940 945 995 |
| 2BE1 203-0 | 970(D) 790(V) 880(V) 1100(V) 1170(V) 1300(V) |
27 20 23 33 37 45 |
37 30 30 45 45 55 |
Y250M-6 Y200L-4 Y200L-4 Y225M-4 Y225M-4 Y250M-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
1120 880 1000 1270 1320 1400 |
18.7 14.7 16.7 21.2 22.0 23.3 |
1065 995 995 1080 1085 1170 |
| 2BE1 252-0 | 740(D) 558(V) 660(V) 832(V) 885(V) 938(V) |
38 26 31.8 49 54 60 |
45 30 37 55 75 75 |
Y280M-8 Y200L-4 Y225S-4 Y250M-4 Y280S-4 Y280S-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
1700 1200 1500 1850 2000 2100 |
28.3 20.0 25.0 30.8 33.3 35.0 |
1693 1460 1515 1645 1805 1805 |
| 2BE1 253-0 | 740(D) 560(V) 660(V) 740(V) 792(V) 833(V) 885(V) 938(V) |
54 37 45 54 60 68 77 86 |
75 45 55 75 75 90 90 110 |
Y315M-8 Y225M-4 Y250M-4 Y280S-4 Y280S-4 Y280M-4 Y280M-4 Y315S-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
2450 1750 2140 2450 2560 2700 2870 3571 |
40.8 29.2 35.7 40.8 42.7 45.0 47.8 50.3 |
2215 1695 1785 1945 1945 2055 2060 2295 |
| 2BE1 303-0 | 740(D) 590(D) 466(V) 521(V) 583(V) 657(V) 743(V) |
98 65 48 54 64 78 99 |
110 75 55 75 75 90 132 |
Y315L2-8 Y315L2-10 Y250M-4 Y280S-4 Y280S-4 Y280M-4 Y315M-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
4000 3200 2500 2800 3100 3580 4000 |
66.7 53.3 41.7 46.7 51.7 59.7 66.7 |
3200 3200 2645 2805 2810 2925 3290 |
| 2BE1 305-1 2BE1 306-1 |
740(D) 590(D) 490(V) 521(V) 583(V) 657(V) 743(V) |
102 70 55 59 68 84 103 |
132 90 75 75 90 110 132 |
Y355M1-8 Y355M1-10 Y280S-4 Y280S-4 Y280M-4 Y315S-4 Y315M-4 |
160毫巴 (-0.085MPa) |
4650 3750 3150 3320 3700 4130 4650 |
77.5 62.5 52.5 55.3 61.2 68.8 77.5 |
3800 3800 2950 3000 3100 3300 3450 |
| 2BE1 353-0 | 590(D) 390(V) 415(V) 464(V) 520(V) 585(V) 620(V) 660(V) |
121 65 70 81 97 121 133 152 |
160 75 90 110 132 160 160 185 |
Y355L2-10 Y280S-4 Y280M-4 Y315S-4 Y315M-4 Y315L1-4 Y315L1-4 Y315L2-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
5300 3580 3700 4100 4620 5200 5500 5850 |
88.3 59.7 61.7 68.3 77.0 86.7 91.7 97.5 |
4750 3560 3665 3905 4040 4100 4100 4240 |
| 2BE1 355-1 2BE1 356-1 |
590(D) 390(V) 435(V) 464(V) 520(V) 555(V) 585(V) 620(V) |
130 75 86 90 102 115 130 145 |
160 90 110 110 132 132 160 185 |
Y355L2-10 Y280M-4 Y315S-4 Y315S-4 Y315M-4 Y315M-4 Y315L1-4 Y315L2-4 |
160毫巴 (-0.085MPa) |
6200 4180 4600 4850 5450 5800 6100 6350 |
103.3 69.7 76.7 80.8 90.8 98.3 101.7 105.8 |
5000 3920 4150 4160 4290 4300 4350 4450 |
| 2BE1 403-0 | 330(V) 372(V) 420(V) 472(V) 530(V) 565(V) |
97 110 131 160 203 234 |
132 132 160 200 250 280 |
Y315M-4 Y315M-4 Y315L1-4 Y315L2-4 Y355M2-4 Y355L1-4 |
33毫巴 (-0.098兆帕) |
5160 5700 6470 7380 8100 8600 |
86.0 95.0 107.8 123.0 135.0 143.3 |
5860 5870 5950 6190 6630 6800 |
| 2BE1 405-1 2BE1 406-1 |
330(V) 372(V) 420(V) 472(V) 530(V) 565(V) |
100 118 140 170 206 235 |
132 160 185 200 250 280 |
Y315M-4 Y315L1-4 Y315L2-4 Y315L2-4 Y355M2-4 Y355L1-4 |
160毫巴 (-0.085MPa) |
6000 6700 7500 8350 9450 15710 |
100.0 111.7 125.0 139.2 157.5 168.3 |
5980 6070 6200 6310 6750 6920 |
/* 2571年3月10日 17:59:20 */!function(){function s(e,r){var a,o={};try{e&&e.split(“,”).forEach(function(e,t){e&&(a=e.match(/(.*?):(.*)$/))&&1
| 石油还是其他: | 无油 |
|---|---|
| 结构: | 旋转真空泵 |
| 排气法: | 动能真空泵 |
| 真空度: | 高真空 |
| 工作职能: | 预吸泵 |
| 工作条件: | 湿的 |
| 定制化: |
可用的
|
|
|---|

真空泵在半导体制造中扮演什么角色?
真空泵在半导体制造过程中发挥着至关重要的作用。以下是详细说明:
半导体制造涉及集成电路(IC)和其他用于各种电子应用的半导体器件的生产。真空泵在整个半导体制造过程中被广泛使用,用于创造和维持特定制造步骤所需的真空条件。
以下是真空泵在半导体制造中的一些关键作用:
1. 沉积工艺:真空泵广泛应用于物理气相沉积 (PVD) 和化学气相沉积 (CVD) 等沉积工艺中。这些工艺涉及将材料薄膜沉积到半导体晶片上,以形成各种层和图案。真空泵有助于创造低压环境,从而实现对沉积过程的精确控制,确保形成均匀且高质量的薄膜。
2. 刻蚀和清洗:真空泵用于刻蚀和清洗工艺,这些工艺涉及从半导体晶圆上去除特定层或污染物。干法刻蚀技术,例如等离子刻蚀和反应离子刻蚀,需要真空环境来促进材料的电离和去除。真空泵有助于创造高效刻蚀和清洗工艺所需的低压条件。
3. 离子注入:离子注入是一种将杂质引入半导体晶片特定区域以改变其电学性能的工艺。真空泵用于抽真空离子注入室,从而创造精确可控的离子束加速和注入所需的真空环境。
4. 晶圆处理与转移:真空泵应用于晶圆处理与转移系统。这些系统利用真空吸力在各种制造步骤中牢固地固定和操作半导体晶圆,例如从工艺腔室装载和卸载晶圆、在工具之间进行机器人转移以及晶圆对准。
5. 装载锁定系统:装载锁定系统用于在大气环境和工艺腔室的真空环境之间转移半导体晶圆。真空泵是装载锁定系统的重要组成部分,它能够产生并维持晶圆转移所需的真空条件,同时最大限度地降低污染风险。
6. 计量与检测:真空泵广泛应用于半导体器件表征的计量与检测工具中。这些工具,例如扫描电子显微镜 (SEM) 和聚焦离子束 (FIB) 系统,通常在真空环境下运行,以实现对半导体结构和缺陷的高分辨率成像和精确分析。
7. 泄漏检测:真空泵用于泄漏检测系统,以识别和定位真空室、工艺管线和其他组件中的泄漏点。这些系统依靠真空泵抽空系统,然后监测压力是否升高,压力升高则表明存在泄漏。
8. 洁净室环境控制:半导体制造工厂需要维持洁净室环境,以防止制造过程中受到污染。真空泵用于洁净室通风和过滤系统的设计和运行,通过去除颗粒物和维持受控的气压差,帮助保持所需的空气洁净度。
半导体制造工艺中使用的真空泵通常是专门设计的,以满足该行业的严格要求。它们需要提供高真空度、精确控制、低污染水平以及连续运行的可靠性。
总的来说,真空泵在半导体制造中不可或缺,它能够为各种工艺创造必要的真空条件,从而确保生产出高质量的半导体器件。

真空泵在制药生产中扮演什么角色?
真空泵在制药生产的各个环节都发挥着至关重要的作用。以下是详细说明:
真空泵广泛应用于制药生产过程中,以支持一系列关键操作。真空泵在制药生产中的主要作用包括:
1. 干燥和蒸发:真空泵广泛应用于制药行业的干燥和蒸发过程中。它们有助于去除药物产品或中间体中的水分或溶剂。真空干燥室或蒸发器利用真空泵产生低压环境,从而降低液体的沸点,使其在较低温度下蒸发。通过施加真空,可以有效地从活性药物成分 (API)、颗粒、粉末或包衣等物质中去除水分或溶剂,从而确保产品达到所需的质量和稳定性。
2. 过滤和滤液回收:真空泵用于过滤过程中固液混合物的分离。真空过滤系统通常采用滤纸或滤膜等过滤介质来截留固体,同时允许液体通过。通过对过滤装置施加真空,液体被吸入过滤介质,固体则被留在滤膜上。真空泵有助于提高过滤效率,加快过滤速度并改善产品质量。此外,真空泵还可以收集和转移滤液,以便进行后续处理或再利用,从而帮助回收滤液。
3. 蒸馏与提纯:真空泵在制药行业的蒸馏和提纯过程中至关重要。蒸馏是指根据不同组分沸点分离液体混合物。真空泵通过创造真空环境降低组分的沸点,使其更容易汽化和分离。这使得药物化合物的高效分离和提纯成为可能,包括去除杂质或分离特定组分。真空泵被应用于各种蒸馏装置中,例如旋转蒸发仪或薄膜蒸发仪,以实现对蒸馏条件的精确控制。
4. 冷冻干燥(冻干):真空泵是冷冻干燥(也称冻干)工艺中不可或缺的设备。冻干是一种脱水技术,旨在去除药物产品中的水分或溶剂,同时保持其结构和完整性。真空泵在冻干室中创造低压环境,使冷冻产品发生升华。在升华过程中,冷冻的水或溶剂直接从固相转化为气相,绕过了液相。真空泵有助于实现高效且可控的升华,从而生产出稳定性好、保质期长的药物产品。
5. 片剂和胶囊生产:真空泵广泛应用于片剂和胶囊的生产过程中。它们用于在压片机或胶囊填充机内产生真空。通过施加真空,可以将模腔或胶囊腔内的空气排出,从而实现粉末或颗粒的精确填充。真空泵通过确保精确的剂量控制和最大限度地减少空气滞留(空气滞留会影响最终产品质量),有助于生产出均匀且形状良好的片剂或胶囊。
6. 灭菌和去污:真空泵广泛应用于制药行业的灭菌和去污过程中。高压灭菌器和消毒器利用真空泵在引入蒸汽或化学灭菌剂之前创造真空环境。通过去除腔室内的空气或气体,真空泵能够增强灭菌剂的渗透和分布,从而帮助实现有效的灭菌或去污。此外,真空泵还有助于在灭菌过程完成后清除灭菌剂和残留物。
值得注意的是,根据工艺的具体要求和与药品的兼容性,制药生产中可以使用不同类型的真空泵,例如旋片泵、干式螺杆泵或液环泵。
总之,真空泵在制药生产的各个阶段都发挥着至关重要的作用,包括干燥和蒸发、过滤和滤液回收、蒸馏和纯化、冷冻干燥(冻干)、片剂和胶囊生产,以及灭菌和去污。真空泵通过实现高效可控的工艺流程,有助于生产高质量的药品,确保其具备所需的特性、稳定性和安全性。

真空泵可以在医疗领域使用吗?
是的,真空泵在医疗领域有着广泛的应用。以下是详细说明:
真空泵在各种医疗应用中发挥着至关重要的作用,它们提供抽吸力或创造可控的真空环境。以下是真空泵在医疗领域的一些主要应用领域:
1. 负压伤口治疗(NPWT):
真空泵广泛应用于负压伤口治疗(NPWT),这是一种促进伤口愈合的技术。在NPWT中,真空泵在伤口敷料内创造一个可控的低压环境,有助于去除多余的液体,促进血液循环,并加速愈合过程。
2. 手术吸痰:
真空泵是手术吸引系统的重要组成部分。它们提供必要的吸力,用于在手术过程中清除手术部位的液体、气体或碎屑。手术吸引有助于保持外科医生的清晰视野,增强组织显露,并有助于营造无菌手术环境。
3. 麻醉:
在麻醉机中,真空泵用于产生抽吸作用,其用途多种多样:
– 气道吸痰:在麻醉或紧急情况下,真空泵可辅助进行气道吸痰,以清除患者气道中的分泌物或阻塞物。
– 气体排出:真空泵有助于从患者的呼吸回路中排出呼出的气体,确保输送新鲜的气体混合物,并维持适当的麻醉水平。
4. 实验室设备:
真空泵是各种医疗实验室设备的重要组成部分:
– 真空烘箱:真空泵用于真空干燥烘箱,用于对敏感材料、样品或实验室玻璃器皿进行受控干燥或热处理。
– 离心浓缩器:离心浓缩器中使用真空泵来促进生物样品(如 DNA、蛋白质或病毒)的浓缩或脱水。
– 冷冻干燥机:真空泵在冷冻干燥过程中发挥着至关重要的作用,样品被冷冻,然后在真空条件下通过升华去除水分,从而保持样品的结构和完整性。
5. 医用吸痰装置:
真空泵广泛应用于独立的医用吸引装置中,这些装置常见于医院、诊所和急诊室。这些装置产生各种医疗程序所需的吸力,包括:
– 吸出呼吸道分泌物:真空泵可以帮助清除咳嗽或无法有效清理呼吸道的患者的呼吸道分泌物或多余液体。
– 胸腔引流:真空泵用于胸腔引流系统,以排出胸膜腔内的空气或液体,帮助治疗气胸或胸腔积液等疾病。
– 妇产科:真空泵用于真空辅助分娩的设备,如真空吸引器,以帮助在分娩过程中安全分娩婴儿。
6. 血液采集和处理:
真空泵广泛应用于血液采集系统和血液处理设备中:
– 采血管:真空泵负责在采血管内产生真空,以便收集血液样本进行诊断测试。
– 血液分离和离心:在血液处理设备中,真空泵有助于分离血液成分,如红细胞、血浆和血小板,用于各种医疗程序和治疗。
7. 医学影像:
真空泵用于某些医学成像技术:
电子显微镜:包括扫描电子显微镜和透射电子显微镜在内的电子显微镜,需要真空环境才能进行高分辨率成像。真空泵用于维持显微镜腔室内所需的真空条件。
以上仅是真空泵在医疗领域广泛应用的几个例子。它们能够产生吸力并控制真空环境,这使得它们在医疗手术、伤口愈合、实验室操作、麻醉以及其他各种医疗应用中不可或缺。


编辑:CX 2024-01-11