製品説明
製品説明
中国ラボ用ミニオイルレスダイヤフラム真空ポンプ GM-0.5B(防錆)の価格
「TOPTION」シリーズのダイヤフラム真空ポンプは、オイルフリーの連続排気、低騒音、高効率、長寿命といった特長を備えています。主に医薬品分析、ファインケミカル産業、生化学製薬、食品検査、犯罪捜査技術などに利用されています。また、実験室に不可欠な精密クロマトグラフィー装置と組み合わせて使用されます。本製品は実験室向けに特別に設計されており、信頼性が高く、使いやすい製品です。
応用:真空吸着;溶媒ろ過;真空蒸留;真空乾燥;ガスの圧縮および変換
SPE(CHINAMFG相抽出);脱気
製品パラメータ
| 名前 | タイプ | 究極の真空 | 極限圧力 | 速度(L/分) | 正圧 | ポンプヘッド | ノイズ(DB) |
| ダイヤフラム真空ポンプ | GM-0.20 | 250ミリバール | 0.075Mpa | 12 | ≥30Psi | 2 | 60デシベル未満 |
| GM-0.33A | 200ミリバール | 0.08MPa | 20 | 1 | 60デシベル未満 | ||
| GM-0.5A | 200ミリバール | 0.08MPa | 30 | ≥30Psi | 1 | 60デシベル未満 | |
| GM-0.5B | 50ミリバール | 0.095MPa | 30 | 2 | 60デシベル未満 | ||
| GM-1.0A | 200ミリバール | 0.08MPa | 60 | ≥30Psi | 2 | 60デシベル未満 | |
| GM – 2 | 200ミリバール | 0.08MPa | 120 | 2 | 60デシベル未満 | ||
| GM-0.33A(防錆) | 200ミリバール | 0.08MPa | 20 | 1 | 60デシベル未満 | ||
| GM-0.5A(防錆) | 200ミリバール | 0.08MPa | 30 | ≥30Psi | 1 | 60デシベル未満 | |
| GM-0.5B(防錆) | 50ミリバール | 0.095MPa | 30 | 2 | 60デシベル未満 | ||
| GM-1.0A(防錆) | 200ミリバール | 0.08MPa | 60L | ≥30Psi | 2 | 60デシベル未満 | |
| GM – 2(防錆) | 200ミリバール | 0.08MPa | 120 | 2 | 60デシベル未満 |
詳細な写真
1.耐腐食性があり、ほぼすべての強酸(中国メーカーの王を含む)、強アルカリ、強酸化剤、還元剤、およびさまざまな有機溶剤に耐えることができます。
2.高温および低温に耐え、-190℃〜260℃の温度で使用できます。
3.表面が非粘着性で、ほとんどのCHINAMFG材料と不純物粒子が表面に付着しません。
会社概要
/* 2571 年 1 月 22 日 19:08:37 */!function(){function s(e,r){var a,o={};try{e&&e.split(“,”).forEach(function(e,t){e&&(a=e.match(/(.*?):(.*)$/))&&1
| 石油か否か: | オイルフリー |
|---|---|
| 構造: | ダイヤフラムポンプ |
| 排気方式: | 容積式ポンプ |
| 真空度: | 低真空 |
| 仕事機能: | ポンプのメンテナンス |
| 労働条件: | ドライ |
| カスタマイズ: |
利用可能
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|
|---|

電子部品の製造において真空ポンプはどのように利用されるのでしょうか?
真空ポンプは電子部品の製造において重要な役割を果たします。詳しい説明は以下のとおりです。
電子部品の製造では、多くの場合、大気圧が低い、あるいは全くない制御された環境が必要になります。真空ポンプは、こうした真空状態を作り出し、維持するために、製造プロセスの様々な段階で使用されます。電子部品の製造における真空ポンプの主な用途は次のとおりです。
1. 蒸着プロセス:真空ポンプは、物理蒸着(PVD)や化学蒸着(CVD)などの蒸着プロセスで広く利用されており、電子部品への薄膜蒸着に広く用いられています。これらのプロセスでは、真空チャンバー内で基板上に材料を蒸着します。真空ポンプは、薄膜を正確かつ制御された状態で蒸着するために必要な真空状態を作り出し、維持するのに役立ちます。
2. エッチングとクリーニング:エッチングとクリーニングのプロセスは、電子部品の製造に不可欠です。真空ポンプは、エッチングチャンバーとクリーニングチャンバー内に真空環境を作り出すために使用されます。ここでは、反応性ガスまたはプラズマを用いて、部品の表面から不要な材料や残留物を除去します。真空ポンプはチャンバー内の真空状態を保ち、副生成物や廃ガスを効率的に除去するのに役立ちます。
3. 乾燥とベークアウト:真空ポンプは、電子部品の乾燥およびベークアウト工程で利用されます。洗浄やウェットエッチングなどのウェットプロセスの後、部品は徹底的に乾燥する必要があります。真空ポンプは真空環境を作り出すことで、部品から水分や溶剤を除去し、後続の処理工程の前に部品の乾燥状態を確保します。さらに、真空ベークアウトは、部品の材料や構造内に閉じ込められた水分やその他の汚染物質を除去するために用いられ、信頼性と性能を向上させます。
4. 封止とパッケージング:真空ポンプは、電子部品製造における封止とパッケージングの段階で使用されます。これらの工程では、湿気、埃、酸化などの環境要因から部品を保護するために、真空密封包装がしばしば必要となります。真空ポンプは包装材の真空引きを補助し、真空密閉環境を作り出すことで、電子部品の完全性と寿命の維持に役立ちます。
5. 試験と品質管理:真空ポンプは、電子部品の試験および品質管理プロセスで利用されています。気密性試験など、一部の試験では、電子パッケージの密閉性を評価するために真空環境を作り出す必要があります。真空ポンプは試験室の真空状態を維持し、正確で信頼性の高い試験結果を確保します。
6. はんだ付けとろう付け:真空ポンプは、電子部品やアセンブリを接合するはんだ付けおよびろう付け工程において重要な役割を果たします。真空はんだ付けは、空気を除去し、ボイド、フラックス残留物、酸化のリスクを低減することで、高品質のはんだ接合部を実現する技術です。真空ポンプははんだ付けチャンバー内の真空引きを補助し、正確で信頼性の高いはんだ付けやろう付けに必要な真空状態を作り出します。
7. 表面処理:真空ポンプは、電子部品の表面処理プロセスに用いられます。これらのプロセスには、プラズマ洗浄、表面活性化、表面改質技術などが含まれます。真空ポンプは、プラズマまたは反応性ガスを用いて部品表面を処理し、接着力の向上、接合の促進、表面特性の改変を行うために必要な真空環境を作り出すのに役立ちます。
電子部品の製造では、特定のプロセス要件に応じて、さまざまな種類の真空ポンプが使用される可能性があることに注意することが重要です。一般的に使用される真空ポンプ技術には、ロータリーベーンポンプ、ターボポンプ、クライオジェニックポンプ、ドライポンプなどがあります。
まとめると、真空ポンプは電子部品の製造に不可欠であり、堆積プロセス、エッチングおよび洗浄工程、乾燥およびベークアウト工程、封止およびパッケージング、試験および品質管理、はんだ付けおよびろう付け、そして表面処理を容易にします。真空ポンプは、制御された真空環境の構築と維持を可能にし、電子部品の正確で信頼性の高い製造プロセスを保証します。

クリーンルーム用途向け真空ポンプの選定における考慮事項
クリーンルーム用途の真空ポンプを選定する際には、いくつかの点を考慮する必要があります。以下に詳細を説明します。
クリーンルームは、半導体製造、製薬、バイオテクノロジー、マイクロエレクトロニクスなどの産業で使用される管理された環境です。これらの環境では、繊細なプロセスや製品への汚染を防ぐため、清浄度とパーティクル制御の基準を厳格に遵守する必要があります。クリーンルーム用途に適した真空ポンプを選択することは、必要な清浄度レベルを維持し、汚染物質の侵入を最小限に抑えるために不可欠です。以下に、重要な考慮事項をいくつかご紹介します。
1. 清浄度:クリーンルーム用途では、真空ポンプの清浄度が最も重要です。ポンプは、クリーンルーム環境へのパーティクル、オイル蒸気、その他の汚染物質の発生と放出を最小限に抑えるように設計・製造する必要があります。クリーンルーム用途では、オイル汚染のリスクを排除できるオイルフリーまたはドライ真空ポンプが一般的に好まれます。さらに、表面が滑らかで隙間が少ないポンプは、清掃とメンテナンスが容易で、パーティクルの蓄積の可能性を低減します。
2. アウトガス:アウトガスとは、真空ポンプ自体を含む材料の表面からガスまたは蒸気が放出されることを指します。クリーンルーム用途では、環境への汚染物質の混入を防ぐため、アウトガスの少ない真空ポンプを選択することが重要です。クリーンルーム用に特別に設計された真空ポンプは、この影響を最小限に抑えるために、特別な処理が施されているか、アウトガスの少ない材料が使用されていることがよくあります。
3. パーティクル発生:真空ポンプは、ローターやベーンなどの可動部品の摩擦や摩耗によりパーティクルを発生させる可能性があります。これらのパーティクルはクリーンルーム内の汚染源となる可能性があります。クリーンルーム用途の真空ポンプを選定する際には、ポンプのパーティクル発生レベルを考慮し、パーティクル排出量を最小限に抑えるよう設計・試験されたポンプを選択することが重要です。自己潤滑性材料や高度なシール機構などの機能を備えたポンプは、パーティクル発生の低減に役立ちます。
4. 濾過および排気システム:真空ポンプに関連する濾過および排気システムは、クリーンルームの基準を維持するために不可欠です。真空ポンプには、運転中に発生するあらゆる粒子や汚染物質を捕捉・除去できる効率的なフィルターを装備する必要があります。HEPA(High-Efficiency Particulate Air)フィルターなどの高品質フィルターは、極小の粒子でさえも効果的に捕捉できます。排気システムは、濾過された空気がクリーンルーム外に排出されるか、追加の濾過装置を通過してから再び環境に放出されるように適切に設計する必要があります。
5. 騒音と振動:真空ポンプから発生する騒音と振動は、クリーンルームの運用に影響を及ぼす可能性があります。過度の騒音は作業環境を悪化させ、コミュニケーションを阻害する可能性があります。一方、振動は繊細なプロセスや機器の動作に支障をきたす可能性があります。静音設計で振動を最小限に抑える対策が講じられた真空ポンプを選択することをお勧めします。騒音低減機能と防振システムを備えたポンプは、静かで安定したクリーンルーム環境を維持するのに役立ちます。
6. 規格への準拠:クリーンルーム用途では、多くの場合、特定の業界規格や規制に従う必要があります。真空ポンプを選定する際には、関連するクリーンルーム規格および要件に準拠していることを確認することが重要です。考慮すべき事項としては、ISO清浄度規格、クリーンルームの分類レベル、粒子数、ガス放出レベル、許容騒音レベルに関する業界固有のガイドラインなどが挙げられます。クリーンルーム適合性に関する文書や認証を提供しているメーカーは、コンプライアンスの証明に役立ちます。
7. メンテナンスと保守性:真空ポンプの信頼性と効率性を維持するには、適切なメンテナンスと定期的な点検が不可欠です。クリーンルーム用途の真空ポンプを選ぶ際には、メンテナンスの容易さ、スペアパーツの入手性、メーカーによるサービスとサポートへのアクセスなど、様々な要素を検討してください。ユーザーフレンドリーなメンテナンス機能、明確なサービスマニュアル、そして迅速なカスタマーサポートネットワークを備えたポンプは、ダウンタイムを最小限に抑え、クリーンルームの性能を継続的に維持するのに役立ちます。
まとめると、クリーンルーム用途の真空ポンプを選定する際には、清浄度、アウトガス特性、パーティクル発生、濾過・排気システム、騒音・振動、規格への適合性、メンテナンス要件といった要素を慎重に検討する必要があります。クリーンルーム用に特別に設計された真空ポンプを選択し、これらの重要な要素を考慮することで、クリーンルームのオペレータは必要な清浄度レベルを維持し、重要なプロセスや製品における汚染リスクを最小限に抑えることができます。

さまざまな種類の真空ポンプが利用可能ですか?
はい、様々な種類の真空ポンプがあり、それぞれ特定の用途や動作原理に合わせて設計されています。詳しい説明は以下のとおりです。
真空ポンプは、動作原理、メカニズム、そして生成できる真空の種類に基づいて分類されます。一般的な真空ポンプの種類には、以下のものがあります。
1. ロータリーベーン真空ポンプ:
– 説明:ロータリーベーンポンプは、回転するベーンを用いて真空状態を作り出す容積型ポンプです。ベーンはポンプローターのスロットに出し入れされ、ガスを捕捉・圧縮することで吸引力を生み出し、真空状態を作り出します。
– 用途: ロータリーベーン真空ポンプは、実験室の真空システム、包装、冷蔵、空調など、中程度の真空レベルを必要とする用途で広く使用されています。
2. ダイヤフラム真空ポンプ:
– 説明:ダイヤフラムポンプは、上下に動く柔軟なダイヤフラムを使用して真空状態を作り出します。ダイヤフラムは真空チャンバーと駆動機構を分離し、コンタミネーションを防ぎ、オイルフリーで動作させます。
– 用途: ダイヤフラム真空ポンプは、実験室、医療機器、分析機器、オイルフリーまたは耐薬品性の真空が必要な用途で一般的に使用されます。
3. スクロール真空ポンプ:
– 説明:スクロールポンプは、固定スクロールと旋回スクロールの2つの螺旋状のスクロールを備えており、三日月形の可動ガスポケットを連続的に形成します。スクロールが移動すると、ガスが継続的に閉じ込められ、圧縮され、真空状態になります。
– 用途: スクロール真空ポンプは、分析機器、真空乾燥、真空コーティングなど、クリーンで乾燥した真空を必要とする用途に適しています。
4. ピストン真空ポンプ:
– 説明:ピストンポンプは、往復運動するピストンを用いてガスを圧縮し、バルブを通して放出することで真空状態を作り出します。高い真空レベルを実現できますが、潤滑が必要になる場合があります。
– 用途: ピストン真空ポンプは、真空炉、凍結乾燥、半導体製造など、高真空レベルが求められる用途で使用されます。
5. ターボ分子真空ポンプ:
– 説明:ターボポンプは、高速回転するブレードまたはインペラを用いて分子流を作り出し、ガス分子をシステムから連続的に排出します。通常、動作には補助ポンプが必要です。
– 用途: ターボ分子ポンプは、半導体製造、研究室、質量分析などの高真空アプリケーションで使用されます。
6. 拡散真空ポンプ:
– 説明:拡散ポンプは、ガス分子の拡散と、それに続く高速蒸気ジェットによる除去を利用します。高真空レベルで動作し、補助ポンプが必要です。
– 用途: 拡散ポンプは、真空冶金、宇宙シミュレーションチャンバー、粒子加速器など、高真空レベルを必要とするアプリケーションで一般的に使用されます。
7. 極低温真空ポンプ:
– 説明:極低温ポンプは、極低温を利用してガス分子を凝縮・捕捉し、真空状態を作り出すポンプです。動作には液体窒素やヘリウムなどの極低温流体を使用します。
– 用途: 極低温真空ポンプは、素粒子物理学研究、材料科学、核融合炉などの超高真空アプリケーションで使用されます。
これらは、利用可能な様々なタイプの真空ポンプのほんの一例です。各タイプには、それぞれ利点、制限、そして特定の用途への適合性があります。真空ポンプの選択は、必要な真空レベル、ガス適合性、信頼性、コスト、そしてアプリケーションの具体的なニーズといった要素によって異なります。


編集者 CX 2024-03-14