产品描述
产品描述
中国实验室迷你无油隔膜真空泵GM-0.5B（防腐蚀）价格
“TOPTION”系列隔膜真空泵具有连续无油抽气、低噪音、高效率、长寿命等特点，主要用于药品分析、精细化工、生化制药、食品检测、刑事侦查等领域。它与精密色谱仪配合使用，是实验室的必备设备。本产品专为实验室设计，可靠易用。
应用：真空吸附；溶剂过滤；真空蒸馏；真空干燥；气体压缩与转化
固相萃取（中国制造相萃取）；脱气
产品参数
| 姓名 | 类型 | 终极真空 | 极限压力 | 速度（升/分钟） | 正压 | 泵头 | 噪声(分贝) |
| 隔膜真空泵 | GM-0.20 | 250毫巴 | 0.075兆帕 | 12 | ≥30磅/平方英寸 | 2 | <60分贝 |
| GM-0.33A | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 20 | 1 | <60分贝 | ||
| GM-0.5A | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 30 | ≥30磅/平方英寸 | 1 | <60分贝 | |
| GM-0.5B | 50毫巴 | 0.095兆帕 | 30 | 2 | <60分贝 | ||
| GM-1.0A | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 60 | ≥30磅/平方英寸 | 2 | <60分贝 | |
| GM – 2 | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 120 | 2 | <60分贝 | ||
| GM-0.33A（防腐蚀） | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 20 | 1 | <60分贝 | ||
| GM-0.5A（防腐蚀） | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 30 | ≥30磅/平方英寸 | 1 | <60分贝 | |
| GM-0.5B（防腐蚀） | 50毫巴 | 0.095兆帕 | 30 | 2 | <60分贝 | ||
| GM-1.0A（防腐蚀） | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 60升 | ≥30磅/平方英寸 | 2 | <60分贝 | |
| GM – 2（防腐蚀） | 200毫巴 | 0.08兆帕 | 120 | 2 | <60分贝 |
详细照片
1.耐腐蚀性强，能够耐受几乎所有强酸（包括中国王酸）、强碱、强氧化剂、还原剂和各种有机溶剂。
2.可承受高低温，可在-190ºC至260ºC的温度范围内使用。
3.不粘表面，大多数中国制造材料和杂质颗粒不会粘附在表面上。
公司简介
/* 2571 年 1 月 22 日 19:08:37 */!function(){function s(e,r){var a,o={};try{e&&e.split(“,”).forEach(function(e,t){e&&(a=e.match(/(.*?):(.*)$/))&&1
| 石油还是其他： | 无油 |
|---|---|
| 结构： | 隔膜泵 |
| 排气法： | 容积式泵 |
| 真空度： | 低真空 |
| 工作职能： | 维护泵 |
| 工作条件： | 干燥 |
| 定制化： |
可用的
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|---|
真空泵在电子元件生产中是如何应用的？
真空泵在电子元件生产中起着至关重要的作用。以下是详细说明：
电子元件的生产通常需要在低压或无压的受控环境中进行。真空泵在生产过程的各个阶段都用于创建和维持这些真空条件。以下是真空泵在电子元件生产中的一些主要应用：
1. 沉积工艺：真空泵广泛应用于物理气相沉积 (PVD) 和化学气相沉积 (CVD) 等沉积工艺中，这些工艺常用于电子元件的薄膜沉积。这些工艺涉及在真空腔内将材料沉积到基板上。真空泵有助于创建和维持薄膜精确可控沉积所需的真空条件。
2. 蚀刻和清洗：蚀刻和清洗工艺是电子元件制造过程中必不可少的步骤。真空泵用于在蚀刻和清洗腔内创造真空环境，利用反应气体或等离子体去除元件表面的杂质或残留物。真空泵有助于抽空腔室，确保有效去除副产物和废气。
3. 干燥和烘烤：真空泵用于电子元件的干燥和烘烤工艺。在湿法工艺（例如清洗或湿法蚀刻）之后，元件需要彻底干燥。真空泵有助于创造真空环境，从而去除元件中的水分或溶剂，确保其在后续加工步骤之前保持干燥。此外，真空烘烤还用于去除元件材料或结构中残留的水分或其他污染物，从而提高其可靠性和性能。
4. 封装和包装：真空泵在电子元件生产的封装和包装阶段发挥着重要作用。这些工艺通常需要使用真空密封包装，以保护元件免受潮湿、灰尘或氧化等环境因素的影响。真空泵有助于抽取包装材料，形成真空密封环境，从而有助于保持电子元件的完整性和延长其使用寿命。
5. 测试与质量控制：真空泵广泛应用于电子元件的测试和质量控制过程中。某些类型的测试，例如气密性测试，需要创建真空环境来评估电子封装的密封完整性。真空泵有助于抽真空测试腔，从而确保测试结果的准确性和可靠性。
6. 焊接和钎焊：真空泵在电子元件和组件的焊接和钎焊工艺中发挥着重要作用。真空焊接是一种通过去除空气并降低空隙、助焊剂残留或氧化风险来获得高质量焊点的技术。真空泵有助于抽真空焊接腔，从而创造精确可靠的焊接或钎焊所需的真空条件。
7. 表面处理：真空泵广泛应用于电子元件的表面处理工艺中。这些工艺包括等离子清洗、表面活化或表面改性等技术。真空泵有助于创造必要的真空环境，使等离子体或反应气体能够处理元件表面，从而提高附着力、促进键合或改变表面性能。
值得注意的是，根据具体工艺要求，电子元件生产中可能会使用不同类型的真空泵。常用的真空泵技术包括旋片泵、涡轮分子泵、低温泵和干式泵。
总之，真空泵在电子元件生产中至关重要，它能够辅助沉积工艺、蚀刻和清洗操作、干燥和烘烤阶段、封装和包装、测试和质量控制、焊接和钎焊以及表面处理。真空泵能够创建和维持可控的真空环境，从而确保电子元件制造工艺的精确性和可靠性。
洁净室应用真空泵选型注意事项
在为洁净室应用选择真空泵时，需要考虑多个因素。以下是详细说明：
洁净室是半导体制造、制药、生物技术和微电子等行业中使用的受控环境。这些环境需要严格遵守洁净度和颗粒物控制标准，以防止敏感工艺或产品受到污染。为洁净室应用选择合适的真空泵对于维持所需的洁净度水平和最大限度地减少污染物的引入至关重要。以下是一些关键考虑因素：
1. 洁净度：真空泵的洁净度在洁净室应用中至关重要。真空泵的设计和构造应尽可能减少颗粒物、油蒸气或其他污染物的产生和释放到洁净室环境中。无油或干式真空泵通常是洁净室应用的首选，因为它们消除了油污染的风险。此外，表面光滑、缝隙少的真空泵更易于清洁和维护，从而降低了颗粒物积聚的可能性。
2. 放气：放气是指气体或蒸汽从材料表面（包括真空泵本身）释放出来。在洁净室应用中，选择低放气特性的真空泵至关重要，以防止污染物进入环境。专为洁净室设计的真空泵通常会经过特殊处理或使用低放气材料，以最大限度地减少放气的影响。
3. 颗粒物产生：真空泵由于转子或叶片等运动部件的摩擦和磨损会产生颗粒物。这些颗粒物可能成为洁净室的污染源。在为洁净室应用选择真空泵时，必须考虑泵的颗粒物产生水平，并选择经过设计和测试以最大限度减少颗粒物排放的泵。采用自润滑材料或先进密封机构等特性的泵有助于减少颗粒物的产生。
4. 过滤和排气系统：真空泵的过滤和排气系统对于维持洁净室标准至关重要。真空泵应配备高效过滤器，以捕获并去除运行过程中产生的任何颗粒物或污染物。高质量的过滤器，例如高效空气微粒过滤器（HEPA），可以有效捕获即使是最小的颗粒物。排气系统应经过合理设计，以确保过滤后的空气排放到洁净室外，或在重新排放到环境中之前经过额外的过滤。
5. 噪声和振动：真空泵产生的噪声和振动会对洁净室操作产生影响。过大的噪声会影响工作环境并妨碍沟通，而振动则可能干扰敏感工艺或设备。建议选择专为静音运行而设计并采取措施最大限度减少振动的真空泵。配备降噪功能和隔振系统的真空泵有助于维持安静稳定的洁净室环境。
6. 符合标准：洁净室应用通常有特定的行业标准或法规必须遵守。选择真空泵时，务必确保其符合相关的洁净室标准和要求。需要考虑的因素包括 ISO 洁净度标准、洁净室等级以及行业特定的颗粒计数、气体释放量或允许噪音水平等准则。能够提供与洁净室适用性相关的文档和认证的制造商可以帮助证明其符合标准。
7. 维护与保养：真空泵的正确维护和定期保养对其可靠高效运行至关重要。在为洁净室应用选择真空泵时，应考虑维护便捷性、备件供应以及制造商提供的服务和支持等因素。具备人性化维护功能、清晰的维修说明和响应迅速的客户支持网络的真空泵有助于最大限度地减少停机时间，并确保洁净室的持续性能。
总之，为洁净室应用选择真空泵需要仔细考虑诸多因素，例如洁净度、脱气特性、颗粒物产生、过滤和排气系统、噪音和振动、是否符合标准以及维护要求。通过选择专为洁净室应用设计的真空泵并考虑这些关键因素，洁净室操作人员可以维持所需的洁净度水平，并最大限度地降低关键工艺和产品受到污染的风险。
有哪些不同类型的真空泵？
是的，市面上有各种类型的真空泵，每种真空泵都针对特定的应用和工作原理而设计。以下是详细说明：
真空泵根据其工作原理、机械结构以及产生的真空类型进行分类。一些常见的真空泵类型包括：
1. 旋片式真空泵：
– 描述：旋片泵是一种容积式泵，它利用旋转的叶片产生真空。叶片在泵转子的槽内滑动，捕获并压缩气体，从而产生吸力并形成真空。
– 应用领域：旋片式真空泵广泛应用于需要中等真空度的应用中，例如实验室真空系统、包装、制冷和空调。
2. 隔膜真空泵：
– 描述：隔膜泵利用上下移动的柔性隔膜产生真空。隔膜将真空室与驱动机构隔开，防止污染并实现无油运行。
– 应用：隔膜真空泵常用于实验室、医疗设备、分析仪器以及需要无油或耐化学腐蚀真空的应用场合。
3. 涡旋真空泵：
– 描述：涡旋泵有两个螺旋形涡旋盘——一个固定不动，一个绕轴旋转——它们形成一系列移动的月牙形气囊。随着涡旋盘的旋转，气体不断被捕获并压缩，最终形成真空。
– 应用：涡旋真空泵适用于需要清洁干燥真空的应用，例如分析仪器、真空干燥和真空镀膜。
4. 活塞式真空泵：
– 描述：活塞泵利用往复运动的活塞压缩气体，然后通过阀门释放气体，从而产生真空。它们可以达到很高的真空度，但可能需要润滑。
– 应用领域：活塞式真空泵用于需要高真空度的应用领域，例如真空炉、冷冻干燥和半导体制造。
5. 涡轮分子真空泵：
– 描述：涡轮泵利用高速旋转的叶片或叶轮产生分子流，持续地将气体分子从系统中泵出。它们通常需要辅助泵才能运行。
– 应用：涡轮分子泵用于高真空应用，例如半导体制造、研究实验室和质谱分析。
6. 扩散真空泵：
– 描述：扩散泵依靠气体分子的扩散，然后通过高速蒸汽射流将其排出。它们在高真空条件下运行，并且需要辅助泵。
– 应用：扩散泵通常用于需要高真空度的应用，例如真空冶金、空间模拟室和粒子加速器。
7. 低温真空泵：
– 描述：低温泵利用极低的温度来冷凝和捕获气体分子，从而产生真空。它们依靠液氮或液氦等低温流体来运行。
– 应用领域：低温真空泵用于超高真空应用，例如粒子物理研究、材料科学和聚变反应堆。
以上仅列举了几种不同类型的真空泵。每种真空泵都有其自身的优势、局限性以及适用范围。真空泵的选择取决于多种因素，例如所需的真空度、气体兼容性、可靠性、成本以及具体的应用需求。
编辑：CX 2024-03-14
