製品説明
適用範囲と特性:
グリーンテックインターナショナル(西湖区)株式会社 はプロの真空ポンプサプライヤーです。2BE1シリーズの水封式真空ポンプとコンプレッサーは、ドイツからの輸入製品の先進技術を統合して当社が製造した、高効率で経済的な製品です。
これらのシリーズ製品は、CHINAMFGとシングルアクション構造を採用しており、コンパクトな構造、メンテナンスの容易さ、信頼性の高い動作、高効率、経済性など、多くの利点があります。
2BE1シリーズ製品の主な特徴:
すべてのベアリングは、ポンプの動作中に正確な方向と高い安定性を保証するために、CHINAMFG または NTN のブランド名の輸入製品です。
インペラの材質はQT400ノジュラー鋳鉄またはステンレス鋼で、ポンプが厳しい条件下で動作する際の安定性を確保し、ポンプの寿命を延ばすことができます。
2BE1 シリーズ ポンプの寿命を延ばすために、ケーシングは鋼板またはステンレス鋼板で作られています。
シャフトブッシングはステンレス製で、通常の素材よりポンプの寿命が 5 倍向上します。
Vベルトプーリー(ポンプをベルトで駆動する場合)には、高精度のテーパーブッシング付きプーリーを採用し、ポンプの信頼性を維持し、寿命を延ばします。また、分解・組立も容易です。
カップリングはポンプを直接駆動するために使用されます。2つのハーフカップリングを接続するフレキシブルパーツはポリウレタン製で、ポンプの信頼性を高めます。
セパレーターをポンプの上部に設置する独自の設計により、スペースを節約し、騒音を効率的に低減します。
すべての部品は樹脂砂で鋳造されており、ポンプ表面は非常に滑らかです。ポンプ表面をパテで覆う必要がなく、効率的に熱を放出します。
ポンプが長時間作動する場合の漏れを防ぐために、輸入製品にはメカニカルシール(オプション)が使用されています。
| タイプ | スピード (ドライブタイプ) 回転数 |
シャフトパワー キロワット |
モーター出力 キロワット |
モーター タイプ |
限定真空 ミリバール |
重さ (全セット) kg |
||
| 吸引能力 | ||||||||
| m 3 /時 | m 3 /分 | |||||||
| 2BE1 151-0 | 1450年(D) 1100(V) 1300(V) 1625年(V) 1750年(V) |
10.8 7.2 9.2 13.2 14.8 |
15 11 11 15 18.5 |
Y160L-4 Y160M-4 Y160M-4 Y160L-4 Y180M-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
405 300 360 445 470 |
6.8 5.0 6.0 7.4 7.8 |
469 428 444 469 503 |
| 2BE1 152-0 | 1450年(D) 1100(V) 1300(V) 1625年(V) 1750年(V) |
12.5 8.3 10.5 15.0 17.2 |
15 11 15 18.5 22 |
Y160L-4 Y160M-4 Y160L-4 Y180M-4 Y180L-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
465 340 415 510 535 |
7.8 5.7 6.9 8.5 8.9 |
481 437 481 515 533 |
| 2BE1 153-0 | 1450年(D) 1100(V) 1300(V) 1625年(V) 1750年(V) |
16.3 10.6 13.6 19.6 22.3 |
18.5 15 18.5 22 30 |
Y180M-4 Y160L-4 Y180M-4 Y180L-4 Y200L-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
600 445 540 660 700 |
10.0 7.4 9.0 11.0 11.7 |
533 480 533 551 601 |
| 2BE1 202-0 | 970(D) 790(V) 880(v) 1100(V) 1170(V) 1300(V) |
17 14 16 22 25 30 |
22 18.5 18.5 30 30 37 |
Y200L2-6 Y180M-4 Y180M-4 Y200L-4 Y200L-4 Y225S-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
760 590 670 850 890 950 |
12.7 9.8 11.2 14.2 14.8 15.8 |
875 850 850 940 945 995 |
| 2BE1 203-0 | 970(D) 790(V) 880(V) 1100(V) 1170(V) 1300(V) |
27 20 23 33 37 45 |
37 30 30 45 45 55 |
Y250M-6 Y200L-4 Y200L-4 Y225M-4 Y225M-4 Y250M-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
1120 880 1000 1270 1320 1400 |
18.7 14.7 16.7 21.2 22.0 23.3 |
1065 995 995 1080 1085 1170 |
| 2BE1 252-0 | 740(D) 558(V) 660(V) 832(V) 885(V) 938(V) |
38 26 31.8 49 54 60 |
45 30 37 55 75 75 |
Y280M-8 Y200L-4 Y225S-4 Y250M-4 Y280S-4 Y280S-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
1700 1200 1500 1850 2000 2100 |
28.3 20.0 25.0 30.8 33.3 35.0 |
1693 1460 1515 1645 1805 1805 |
| 2BE1 253-0 | 740(D) 560(V) 660(V) 740(V) 792(V) 833(V) 885(V) 938(V) |
54 37 45 54 60 68 77 86 |
75 45 55 75 75 90 90 110 |
Y315M-8 Y225M-4 Y250M-4 Y280S-4 Y280S-4 Y280M-4 Y280M-4 Y315S-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
2450 1750 2140 2450 2560 2700 2870 3571 |
40.8 29.2 35.7 40.8 42.7 45.0 47.8 50.3 |
2215 1695 1785 1945 1945 2055 2060 2295 |
| 2BE1 303-0 | 740(D) 590(D) 466(V) 521(V) 583(V) 657(V) 743(V) |
98 65 48 54 64 78 99 |
110 75 55 75 75 90 132 |
Y315L2-8 Y315L2-10 Y250M-4 Y280S-4 Y280S-4 Y280M-4 Y315M-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
4000 3200 2500 2800 3100 3580 4000 |
66.7 53.3 41.7 46.7 51.7 59.7 66.7 |
3200 3200 2645 2805 2810 2925 3290 |
| 2BE1 305-1 2BE1 306-1 |
740(D) 590(D) 490(V) 521(V) 583(V) 657(V) 743(V) |
102 70 55 59 68 84 103 |
132 90 75 75 90 110 132 |
Y355M1-8 Y355M1-10 Y280S-4 Y280S-4 Y280M-4 Y315S-4 Y315M-4 |
160ミリバール (-0.085MPa) |
4650 3750 3150 3320 3700 4130 4650 |
77.5 62.5 52.5 55.3 61.2 68.8 77.5 |
3800 3800 2950 3000 3100 3300 3450 |
| 2BE1 353-0 | 590(D) 390(V) 415(V) 464(V) 520(V) 585(V) 620(V) 660(V) |
121 65 70 81 97 121 133 152 |
160 75 90 110 132 160 160 185 |
Y355L2-10 Y280S-4 Y280M-4 Y315S-4 Y315M-4 Y315L1-4 Y315L1-4 Y315L2-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
5300 3580 3700 4100 4620 5200 5500 5850 |
88.3 59.7 61.7 68.3 77.0 86.7 91.7 97.5 |
4750 3560 3665 3905 4040 4100 4100 4240 |
| 2BE1 355-1 2BE1 356-1 |
590(D) 390(V) 435(V) 464(V) 520(V) 555(V) 585(V) 620(V) |
130 75 86 90 102 115 130 145 |
160 90 110 110 132 132 160 185 |
Y355L2-10 Y280M-4 Y315S-4 Y315S-4 Y315M-4 Y315M-4 Y315L1-4 Y315L2-4 |
160ミリバール (-0.085MPa) |
6200 4180 4600 4850 5450 5800 6100 6350 |
103.3 69.7 76.7 80.8 90.8 98.3 101.7 105.8 |
5000 3920 4150 4160 4290 4300 4350 4450 |
| 2BE1 403-0 | 330(V) 372(V) 420(V) 472(V) 530(V) 565(V) |
97 110 131 160 203 234 |
132 132 160 200 250 280 |
Y315M-4 Y315M-4 Y315L1-4 Y315L2-4 Y355M2-4 Y355L1-4 |
33ミリバール (-0.098MPa) |
5160 5700 6470 7380 8100 8600 |
86.0 95.0 107.8 123.0 135.0 143.3 |
5860 5870 5950 6190 6630 6800 |
| 2BE1 405-1 2BE1 406-1 |
330(V) 372(V) 420(V) 472(V) 530(V) 565(V) |
100 118 140 170 206 235 |
132 160 185 200 250 280 |
Y315M-4 Y315L1-4 Y315L2-4 Y315L2-4 Y355M2-4 Y355L1-4 |
160ミリバール (-0.085MPa) |
6000 6700 7500 8350 9450 15710 |
100.0 111.7 125.0 139.2 157.5 168.3 |
5980 6070 6200 6310 6750 6920 |
/* 2571年3月10日 17時59分20秒 */!function(){function s(e,r){var a,o={};try{e&&e.split(“,”).forEach(function(e,t){e&&(a=e.match(/(.*?):(.*)$/))&&1
| 石油か否か: | オイルフリー |
|---|---|
| 構造: | ロータリー真空ポンプ |
| 排気方式: | キネティック真空ポンプ |
| 真空度: | 高真空 |
| 仕事機能: | プレサクションポンプ |
| 労働条件: | 濡れた |
| カスタマイズ: |
利用可能
|
|
|---|

半導体製造における真空ポンプの役割とは?
真空ポンプは半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たします。以下に詳しく説明します。
半導体製造には、様々な電子機器に使用される集積回路(IC)やその他の半導体デバイスの製造が含まれます。真空ポンプは、半導体製造プロセス全体を通して広く使用され、特定の製造工程に必要な真空状態を作り出し、維持します。
半導体製造における真空ポンプの主な役割は次のとおりです。
1. 成膜プロセス:真空ポンプは、物理蒸着(PVD)や化学蒸着(CVD)などの成膜プロセスで使用されます。これらのプロセスでは、半導体ウェーハ上に材料の薄膜を堆積させ、様々な層やパターンを形成します。真空ポンプは、成膜プロセスの精密な制御に必要な低圧環境を作り出し、均一で高品質な膜形成を実現します。
2. エッチングとクリーニング:真空ポンプは、半導体ウェーハから特定の層や汚染物質を除去するエッチングおよびクリーニングプロセスで使用されます。プラズマエッチングや反応性イオンエッチングなどのドライエッチング技術では、材料のイオン化と除去を促進するために真空環境が必要です。真空ポンプは、効率的なエッチングおよびクリーニングプロセスに必要な低圧状態を作り出すのに役立ちます。
3. イオン注入:イオン注入は、半導体ウェハの特定の領域に不純物を導入して電気特性を変化させるプロセスです。真空ポンプを用いてイオン注入チャンバーを真空状態にすることで、イオンビームの加速と注入を正確かつ制御された状態で行うために必要な真空環境を作り出します。
4. ウェーハのハンドリングと搬送:真空ポンプはウェーハのハンドリングと搬送システムに使用されます。これらのシステムは、プロセスチャンバーからのロードとアンロード、ツール間のロボット搬送、ウェーハアライメントなど、様々な製造工程において、真空吸引力を利用して半導体ウェーハを安全に保持・操作します。
5. ロードロックシステム:ロードロックシステムは、半導体ウェハを大気環境とプロセスチャンバー内の真空環境間で搬送するために使用されます。真空ポンプはロードロックシステムの不可欠なコンポーネントであり、ウェハ搬送に必要な真空状態を生成・維持しながら、汚染リスクを最小限に抑えます。
6. 計測と検査:真空ポンプは、半導体デバイスの特性評価に使用される計測・検査ツールに利用されています。走査型電子顕微鏡(SEM)や集束イオンビーム(FIB)システムなどのこれらのツールは、半導体の構造や欠陥の高解像度画像化と正確な分析を可能にするため、真空環境で動作することがよくあります。
7. リーク検出:真空ポンプは、真空チャンバー、プロセスライン、その他のコンポーネントにおけるリーク検出システムで使用され、リーク検出システムにおけるリーク箇所を特定・特定します。これらのシステムでは、真空ポンプを使用してシステムを真空状態にし、圧力上昇を監視してリークの存在を示唆します。
8. クリーンルーム環境制御:半導体製造施設では、製造工程中の汚染を防ぐためにクリーンルーム環境を維持しています。真空ポンプは、クリーンルームの換気および濾過システムの設計と運用に使用され、粒子を除去し、空気の差圧を制御することで、必要な空気清浄度レベルを維持するのに役立ちます。
半導体製造プロセスで使用される真空ポンプは、業界の厳しい要件を満たすために、多くの場合特殊化されています。高い真空レベル、精密な制御、低い汚染レベル、そして連続運転のための信頼性が求められます。
総じて、真空ポンプは半導体製造に不可欠であり、さまざまなプロセスに必要な真空状態を作り出すことを可能にし、高品質の半導体デバイスの製造を保証します。

真空ポンプは真空チャンバーの性能にどのような影響を与えますか?
真空チャンバーの性能において、真空ポンプは重要な役割を果たします。詳しい説明は以下のとおりです。
真空チャンバーは、低圧環境を作り出し、維持するために設計された密閉空間です。製造、研究、材料処理など、様々な産業や科学用途で使用されています。真空ポンプは、チャンバー内の空気やその他のガスを排出し、真空状態または低圧状態を作り出すために使用されます。真空チャンバーの性能は、使用する真空ポンプの特性と動作に直接影響されます。
真空ポンプが真空チャンバーのパフォーマンスに及ぼす主な影響は次のとおりです。
1. 真空レベルの達成と維持:真空ポンプの主な機能は、チャンバー内に所定の真空レベルを作り出し、維持することです。真空ポンプは空気やその他のガスを除去し、チャンバー内の圧力を下げます。真空ポンプの効率と容量は、所定の真空レベルにどれだけ速く到達し、どれだけ良好に維持できるかを決定します。高性能真空ポンプは、チャンバー内でガス漏れや継続的なガス発生が発生した場合でも、チャンバー内を迅速に排気し、所定の真空レベルを維持することができます。
2. 排気速度:真空ポンプの排気速度とは、単位時間あたりにチャンバーから除去できるガスの量を指します。排気速度は、チャンバー内の排気速度と、所望の真空レベルに達するまでの時間に影響します。排気速度が高いほど、排気速度が速くなり、サイクルタイムが短縮されるため、真空チャンバー全体の効率が向上します。
3. 到達真空度:到達真空度とは、チャンバー内で達成できる最低圧力のことです。到達真空度は真空ポンプの設計と性能によって異なります。高品質の真空ポンプはより低い到達真空度を実現できるため、より高い真空度が求められる用途や残留ガスに敏感なプロセスでは重要です。
4. リーク検出とガス除去:真空ポンプは、チャンバー内のリーク検出とガス除去にも役立ちます。チャンバー内を継続的に真空状態にすることで、リークやガスの侵入を迅速に特定し、対処することができます。これにより、チャンバー内の真空レベルが維持され、汚染物質や不要なガスの存在を最小限に抑えることができます。
5. 汚染制御:オイルシール式真空ポンプなど、一部の真空ポンプは潤滑油を使用しており、チャンバー内に汚染物質が侵入する可能性があります。これらの汚染物質は、半導体製造や研究などの特定の用途では望ましくない場合があります。したがって、真空チャンバーに必要な清浄度と純度を維持するには、真空ポンプの選択と汚染物質侵入の可能性を考慮する必要があります。
6. 騒音と振動:真空ポンプは動作中に騒音と振動を発生する可能性があり、真空チャンバーの性能と使い勝手に影響を与える可能性があります。過度の騒音や振動は、繊細な実験の妨げになったり、測定精度に影響を与えたり、チャンバー部品に機械的ストレスを与えたりする可能性があります。チャンバーの最適な性能を維持するためには、騒音と振動レベルの低い真空ポンプを選択することが重要です。
真空チャンバーの具体的な要件と性能要因は、用途によって異なる場合があることに留意することが重要です。ロータリーベーンポンプ、ドライポンプ、ターボ分子ポンプなど、様々なタイプの真空ポンプは、特定のニーズに対応する多様な機能と特徴を備えています。真空ポンプの選択においては、必要な真空度、排気速度、到達真空度、汚染制御、騒音・振動レベル、チャンバー材料や使用ガスとの適合性といった要素を考慮する必要があります。
まとめると、真空ポンプは真空チャンバーの性能に大きな影響を与えます。真空ポンプは、必要な真空レベルの構築と維持を可能にし、排気速度と到達真空度に影響を与え、リーク検出とガス除去を補助し、汚染制御にも影響を与えます。真空ポンプを慎重に選定することで、様々な用途において最適なチャンバー性能を確保できます。

真空ポンプとエアコンプレッサーの違いは何ですか?
真空ポンプとエアコンプレッサーはどちらも空気やガスを操作するための機械装置ですが、その目的は正反対です。それぞれの違いについて詳しく説明します。
1. 機能:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、密閉系内の圧力を除去または低下させ、真空または低圧環境を作り出すように設計されています。チャンバーから空気またはガスを排出し、吸引圧または負圧を作り出します。
– エアコンプレッサー:一方、エアコンプレッサーは空気またはガスの圧力を高めるために使用されます。周囲の空気またはガスを取り込み、圧縮することで、圧力を高め、空気またはガスの体積を圧縮します。
2. 圧力範囲:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、大気圧または絶対零度以下の圧力を発生させることができます。圧力範囲は通常、負圧まで拡張され、トルやパスカルなどの単位で表されます。
– エアコンプレッサー:一方、エアコンプレッサーは正圧範囲で動作します。大気圧よりも高い圧力を発生し、通常は平方インチあたりの重量ポンド数(psi)やbarなどの単位で測定されます。
3. 用途:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、真空または低圧環境の生成が必要な様々な用途に使用されます。真空蒸留、真空乾燥、真空包装、真空ろ過などのプロセスで使用されます。また、科学研究、半導体製造、医療用吸引装置など、多くの産業においても不可欠な存在です。
– エアコンプレッサー:エアコンプレッサーは、高圧の圧縮空気またはガスが必要な用途で使用されます。空気圧工具、製造プロセス、空調システム、発電、タイヤの空気注入などに使用されます。圧縮空気は汎用性が高く、様々な産業用途や商業用途で利用できます。
4. 設計とメカニズム:
– 真空ポンプ:真空ポンプは、密閉系から空気またはガスを除去することで真空状態を作り出すように設計されています。所定の真空レベルを達成するために、容積移送式、エントラップメント式、運動量移動式などの機構が用いられます。真空ポンプの種類としては、ロータリーベーンポンプ、ダイヤフラムポンプ、拡散ポンプなどが挙げられます。
– エアコンプレッサー:エアコンプレッサーは、空気またはガスを圧縮し、圧力を高め、容積を減少させるように設計されています。往復ピストン、回転スクリュー、遠心力などの機構を利用して空気またはガスを圧縮します。一般的なエアコンプレッサーの種類には、往復圧縮機、回転スクリュー圧縮機、遠心圧縮機などがあります。
5. 空気/ガスの流れの方向:
– 真空ポンプ: 真空ポンプは空気またはガスをポンプ内に引き込み、それをシステムから排出することで、排気されるチャンバーまたはシステム内に真空を作り出します。
– エアコンプレッサー:エアコンプレッサーは周囲の空気またはガスを取り込み、それを圧縮して圧力を高め、タンクに貯蔵するか、目的の用途に直接送ります。
真空ポンプとエアコンプレッサーは機能が異なり、動作圧力範囲も異なりますが、どちらも様々な業界や用途において不可欠な存在です。真空ポンプは真空または低圧環境を作り出し、維持する一方、エアコンプレッサーは空気またはガスを様々な用途やプロセスに合わせて高圧に圧縮します。


編集者 CX 2023-12-26